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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]納米拋光液---吉致電子氧化硅slurry的應(yīng)用及特點(diǎn)[ 2024-10-10 16:56 ]
  吉致電子納米級(jí)氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型CMP拋光產(chǎn)品。粒度均一的SiO2磨料顆粒在CMP研磨過(guò)程中分散均勻，能達(dá)到快速拋光的目的且不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷。納米級(jí)硅溶膠拋光液不易腐蝕設(shè)備，提高了使用的安全性。制備工藝和配方有效提高了平坦化加工速率，快速降低表面粗糙度，且工件表面劃傷少。  吉致電子氧化硅slurry粒徑分布可控，根據(jù)不同的拋光需求，生產(chǎn)出不同粒徑大小的納米氧化硅拋光液，粒徑范圍通常在 5-100nm 之間。以氧化硅為磨料的納米拋
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[常見(jiàn)問(wèn)題]二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同[ 2023-08-11 16:04 ]
  二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝制備成的一種低金屬離子高純度CMP拋光產(chǎn)品。 硅溶膠拋光液是以液體形式存在，直徑為10-150nm的二氧化硅粒子（分散相）在水或有機(jī)液體（分散介質(zhì)）里的分散體系，粒子的形貌多為球形，適用于各類(lèi)工件的鏡面拋光，如金屬、藍(lán)寶石襯底、半導(dǎo)體、光學(xué)玻璃、精密電子元器件等的鏡面拋光。 本質(zhì)上講二氧化硅拋光液、硅溶膠拋光液都是一種東西，主要成分都是SiO2只是叫法不同。在CMP研磨拋光工藝中，機(jī)器通過(guò)壓力泵把氧化硅拋光液輸送到拋光槽內(nèi)進(jìn)行循環(huán)使用，
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[常見(jiàn)問(wèn)題]如何解決氧化硅拋光液結(jié)晶問(wèn)題[ 2023-05-09 17:17 ]
 二氧化硅拋光液在拋光過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶結(jié)塊的現(xiàn)象，雖然不是大問(wèn)題但如果處理不當(dāng)，很可能會(huì)導(dǎo)致工件表面劃傷甚至報(bào)廢，那么怎么解決氧化硅拋光液結(jié)晶問(wèn)題呢？  首先要了解硅溶膠拋光液的特點(diǎn)屬性。二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)水解法離子、交換法制備成的一種高純度低金屬離子型產(chǎn)品。在水性環(huán)境中容易形成一種離子網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而一脫離了水份，表面積迅速凝結(jié)形成結(jié)晶塊，所以只要保持水分基本上是不會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象。在實(shí)際CMP拋光工藝當(dāng)中硅溶膠拋光液會(huì)一直在研磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)、流動(dòng)，結(jié)晶情況較少。  因此氧化
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[吉致動(dòng)態(tài)]CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點(diǎn)[ 2023-03-03 09:15 ]
  通?；瘜W(xué)機(jī)械研磨拋光工藝使用的CMP拋光液有金剛石拋光液、氧化硅拋光液、氧化鋁拋光液及氧化鈰拋光液（又稱(chēng)稀土拋光液）。  納米氧化鈰為水性液體是吉致電子采用先進(jìn)的分散工藝，將納米氧化鈰粉體分散在水相介質(zhì)中，形成高度分散化、均勻化和穩(wěn)定化的納米氧化鈰水性懸浮液。1.在拋光材料應(yīng)用中，納米CeO2拋光液相對(duì)硅溶膠，具有拋光劃傷少、拋光速度快、易清洗良品率高等優(yōu)勢(shì)，且PH中性，使用壽命長(zhǎng)、對(duì)拋光表面污染小，不易風(fēng)干。2.在拋光軍用紅外激光硅片、異型硅、超薄硅片方面上，尤其是拋光超薄硅片，納米氧化鈰
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[常見(jiàn)問(wèn)題]SiO2二氧化硅拋光液--硅溶膠粒徑大小的區(qū)別[ 2023-01-06 16:24 ]
  二氧化硅拋光液SiO2 Slurry的制備中主要成分是納米硅溶膠，一般分為大粒徑硅溶膠和小粒徑硅溶膠，那么怎么定義硅溶膠粒徑大小呢，吉致電子小編為您詳解： 大粒徑硅溶膠與小粒徑硅溶膠的定義 CMP精拋液中納米硅溶膠顆粒的粒徑為10-50nm，這個(gè)粒徑范圍的硅溶膠在市場(chǎng)上最常見(jiàn)，價(jià)格也相對(duì)便宜。如果對(duì)硅溶膠的純度和pH值沒(méi)有特殊要求，這種規(guī)格的硅溶膠價(jià)格相對(duì)比較便宜。 大粒徑硅溶膠:粒徑＞50nm的硅溶膠一般可稱(chēng)為大粒徑硅溶膠。吉致電子科技生產(chǎn)的大粒徑硅溶膠最大可達(dá)150n
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[吉致動(dòng)態(tài)]硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]
  吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級(jí)工藝，主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質(zhì)工件的CMP表面鏡面處理。以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)玻璃、3C電子金屬元件、藍(lán)寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。  硅溶膠拋光液也稱(chēng)二氧化硅拋光液、氧化硅精拋液，SiO2是硅溶膠的化學(xué)名，適用范圍已擴(kuò)展到半導(dǎo)體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。  CMP拋光機(jī)可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤(pán)，同時(shí)起到潤(rùn)滑和冷卻的作用，通過(guò)拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達(dá)到0.2um
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[行業(yè)資訊]半導(dǎo)體拋光液--球型二氧化硅拋光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]
  球形硅微粉作為拋光液磨料，可大大提高產(chǎn)品的剛性、耐磨性、耐候性、抗沖擊性、耐壓性、抗拉性、阻燃性、良好的耐電弧絕緣性和耐紫外線輻射性。讓我們來(lái)看看球型二氧化硅拋光液在電子芯片中的一些應(yīng)用。  精密研磨粉高純球形硅粉用于光學(xué)器件和光電行業(yè)的精密研磨，特別適用于半導(dǎo)體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學(xué)玻璃、液晶顯示器(LCD、LED)玻璃基板、壓電晶體、化合物半導(dǎo)體材料(砷化鎵、磷化銦)、磁性材料等半導(dǎo)體行業(yè)的研磨拋光。  吉致電子用高純球形硅粉制備成的超高純硅溶膠拋光液slurry,
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[行業(yè)資訊]氧化鋁拋光液在藍(lán)寶石窗口中的應(yīng)用[ 2022-09-23 15:36 ]
  α -氧化鋁(Al2O3)是眾多氧化鋁晶相中的最穩(wěn)定的晶體相，它由其他晶相的氧化鋁在高溫下轉(zhuǎn)變而成，是天然氧化物晶體中硬度最高的物質(zhì)，硬度僅次于金剛石，遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于二氧化硅溶膠顆粒，它是一種常用的拋光用磨料，被廣泛用于許多硬質(zhì)材料的拋光上。應(yīng)用于CMP拋光液制備中，常用于在藍(lán)寶石窗口的鏡面拋光工藝中。 α -氧化鋁(Al2O3)其實(shí)與藍(lán)寶石是同一種物質(zhì)或材料，材料結(jié)構(gòu)中的原子排列模式完全相同，區(qū)別在于多晶體與單晶體。因此，從硬度上講α-氧化鋁(Al2O3)納米粉體與藍(lán)寶石晶體的硬度相當(dāng)，可以用于
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[常見(jiàn)問(wèn)題]什么是混合磨料拋光液？[ 2022-09-08 16:12 ]
混合磨料拋光液  拋磨工件材質(zhì)的升級(jí)和發(fā)展，對(duì)鏡面要求越來(lái)越高，單一的磨料已無(wú)法滿足CMP行業(yè)需求，研究人員開(kāi)始嘗試將不同粒徑、不同形貌的一種或多種粒子組合到一起使用，開(kāi)發(fā)出混合型拋光液。比如，在大粒徑二氧化硅中加入小粒徑的氧化硅，這樣能明顯提高拋光速率，且粒徑相差越大提升率越高，這是因?yàn)樵谀チ显诳偟馁|(zhì)量分?jǐn)?shù)不變的條件下，增大小粒徑磨料的占比能增加硅溶膠顆粒的總體數(shù)量，從而起到了提高拋光速率的作用。  大量的研究成果表明，混合粒子的使用能夠不同程度的提高化學(xué)機(jī)械拋光的速率，但是對(duì)拋光后表面粗糙度
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[常見(jiàn)問(wèn)題]CMP拋光液中磨料對(duì)拋光效果的影響[ 2022-08-30 15:49 ]
磨料對(duì)拋光效果的影響在CMP拋光過(guò)程中磨料的作用是借助機(jī)械力，通過(guò)化學(xué)反應(yīng)去除工件或晶圓表面形成的鈍化膜，從而達(dá)到表面平坦化的目的。CMP拋光液常用的磨料有硅溶膠SiO2、氧化鋁Al2O3、氧化鈰CeO2、金剛石等。磨料的種類(lèi)磨料的種類(lèi)和材質(zhì)決定了拋光液中微粒的硬度和粒徑，從而影響拋光效果。拋光鋁合金工件實(shí)驗(yàn)中相對(duì)于氧化鋁拋光液Al2O3磨料，氧化硅拋光液SiO2磨料能獲得較好的表面平整度、更少的表面劃痕和更小的尺寸。原因是硅溶膠拋光液SiO2磨粒尺寸較小，拋光時(shí)磨料嵌入晶圓表面的深度較小。 此外，通過(guò)優(yōu)
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[常見(jiàn)問(wèn)題]吉致電子硅溶膠拋光液的適用范圍[ 2022-08-19 15:44 ]
硅溶膠拋光液又稱(chēng)氧化硅拋光液，通過(guò)離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩(wěn)定硅溶膠，經(jīng)過(guò)鈍化添加化學(xué)助劑和特殊工藝配制成的二氧化硅拋光漿料，廣泛應(yīng)用于集成電路半導(dǎo)體、特殊材料、金屬工件、脆硬鏡面的拋光。吉致電子25年CMP拋光液生產(chǎn)廠家，可根據(jù)客戶不同工藝要求定制調(diào)整拋光漿料。氧化硅拋光液主要適用范圍:1.可用于玻璃陶瓷的表面拋光。2.用于硅片和IC加工的粗拋和精拋，適用于大規(guī)模集成電路多層膜的平坦化。3.用于半導(dǎo)體元件的加工，如晶圓后道CMP清洗、光導(dǎo)攝像管、多晶化模塊、平板顯示器、微電機(jī)系統(tǒng)等。4.廣泛應(yīng)用于CMP化
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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-08-19 15:29 ]
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn):1，可提高工件拋光速率和平坦度加工質(zhì)量，氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅（SiO2）磨料及多種復(fù)合材料配置而成，不會(huì)對(duì)工件造成物理?yè)p傷，拋光率高。2，利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達(dá)到高速拋光的目的。3，硅溶膠純度高，拋光液不腐蝕設(shè)備，無(wú)毒無(wú)害使用安全性能高。4，可實(shí)現(xiàn)高平坦化加工。5，有效減少拋光后的表面劃痕，降低表面粗糙度。吉致電子通過(guò)科學(xué)工藝分散均勻的氧化硅顆粒，得到均勻分散的納米拋光液，具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CMP技術(shù)用的
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[吉致動(dòng)態(tài)]鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]
鏡面拋光液的主要材料是納米二氧化硅磨料，制備成的液體漿料也稱(chēng)為硅溶膠拋光液。二氧化硅拋光液主要適用于拋光藍(lán)寶石襯底、硅片、半導(dǎo)體、精密電子工件、晶體等產(chǎn)品。二氧化硅拋光漿料主要利用硅膠離子的高速拋光來(lái)達(dá)到表面處理的效果。二氧化硅是用納米技術(shù)制成的。根據(jù)工件拋磨要求，可制備出不同切削力的產(chǎn)品達(dá)到鏡面拋光。粒度控制可以有效減少電子工件上的污垢，使用納米級(jí)硅膠顆粒加工工件，不會(huì)損傷工件，同時(shí)還能達(dá)到理想效果氧化硅拋光液需要配合精拋墊使用，精拋墊的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的眾多孔隙可以將拋光液均勻地粘在其表面，與工件一起研
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[吉致動(dòng)態(tài)]氧化硅拋光液的結(jié)晶問(wèn)題[ 2022-08-12 13:25 ]
  氧化硅拋光液長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中，會(huì)使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅，造成硅晶體析出現(xiàn)象，稱(chēng)之為結(jié)晶。在實(shí)際應(yīng)用時(shí)，硅溶膠拋光液會(huì)一直在磨盤(pán)內(nèi)旋轉(zhuǎn)循環(huán)及流動(dòng)，結(jié)晶現(xiàn)象較少，但是高溫或拋光液濃度沒(méi)有配置好，會(huì)造成團(tuán)聚，損傷工件，影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性，吉致電子拋光液廠家開(kāi)發(fā)了抗結(jié)晶納米二氧化硅拋光液，可以長(zhǎng)時(shí)間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時(shí)易搖散且不團(tuán)聚，化學(xué)性能穩(wěn)定分散均勻，氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時(shí)，磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果，無(wú)劃傷、高平坦。  外需要注意的是，氧化硅拋光液的
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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子---氧化硅拋光液的特點(diǎn)和作用[ 2022-08-04 14:54 ]
氧化硅拋光液的主要成分是高純二氧化硅粉為，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光液。氧化硅溶液其實(shí)就是市面上的硅溶膠，當(dāng)然是二次加工后的硅溶膠。因?yàn)?font color='red'>硅溶膠是膠狀的，不能直接研磨拋光。這項(xiàng)技術(shù)的主要應(yīng)用是CMP半導(dǎo)體拋光。該技術(shù)在相對(duì)早期階段就已存在，但市場(chǎng)應(yīng)用范圍較窄。       氧化硅外觀為乳白色懸浮液，呈堿性、中性、酸性。一般時(shí)間長(zhǎng)了不會(huì)有沉淀，但是暴露在空氣中很快就會(huì)結(jié)晶，有一定的腐蝕性。不銹鋼工件在二氧化硅環(huán)境中容易生銹，拋光工件時(shí)應(yīng)及時(shí)清洗掉二氧化硅溶液。&n
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[行業(yè)資訊]吉致電子--拋光液的主要成分和功能有哪些？[ 2022-07-22 16:52 ]
  拋光液的主要成分可分為以下幾類(lèi):氧化鋁拋光液、氧化鈰拋光液、金剛石研磨液(聚晶鉆石拋光液、單晶金剛石拋光液、納米金剛石拋光液)、氧化硅拋光液、碳化硅拋光液。  硅溶膠拋光液(氧化硅拋光液)是以高純硅粉為原料，通過(guò)特殊工藝（如水解法）生產(chǎn)的高純度低金屬離子型拋光產(chǎn)品。廣泛應(yīng)用于多種納米級(jí)材料的高平坦化拋光，如硅晶片、鍺晶片、砷化鎵、磷化銦等化合物半導(dǎo)體材料、精密光學(xué)器件、藍(lán)寶石襯底、藍(lán)寶石窗口等。  金剛石拋光液以金剛石微粉為主要成分，高分散配方，硬度高韌性好，有良好的高切削率，不易
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[行業(yè)資訊]CMP拋光技術(shù)在半導(dǎo)體和藍(lán)寶石工件中的應(yīng)用[ 2022-07-05 15:08 ]
藍(lán)寶石襯底拋光用什么工藝可以實(shí)現(xiàn)？LED芯片又是怎么實(shí)現(xiàn)表面拋光平整的？吉致電子拋光液小編帶您了解！目前LED芯片主要采用的襯底材料是藍(lán)寶石，在加工過(guò)程中需要對(duì)其進(jìn)行減薄和拋光。藍(lán)寶石的硬度高，普通磨料難以對(duì)其進(jìn)行加工。在用金剛石研磨液對(duì)藍(lán)寶石襯底表面進(jìn)行減薄和粗磨后，表面不可避免的有一些或大或小的劃痕。CMP拋光液利用"軟磨硬"的原理很好的實(shí)現(xiàn)了藍(lán)寶石表面的精密拋光。隨著LED行業(yè)的快速發(fā)展，聚晶金剛石研磨液及二氧化硅溶膠拋光液的需求也與日俱增。CMP技術(shù)還廣泛的應(yīng)用于集成電路(IC)和大規(guī)模
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[常見(jiàn)問(wèn)題]氧化硅拋光液顏色的區(qū)別[ 2022-06-23 13:42 ]
吉致電子氧化硅拋光液的顏色有白色、乳白色和淺藍(lán)色。硅溶膠拋光液顏色不同，其二氧化硅含量和用途也不一樣。一般來(lái)說(shuō)，二氧化硅拋光液顏色越藍(lán)，濃度越高，粒度越細(xì)。濃度降低顏色就會(huì)變白，但是含量過(guò)低也會(huì)變白，這個(gè)要做濃度測(cè)試才能判斷。二氧化硅拋光液的顏色不同，拋光工件的類(lèi)型和粒度也不同。一般鑄造鋁合金的液態(tài)二氧化硅是藍(lán)色的，且藍(lán)色比較透明，這樣的氧化硅粒徑較小，因?yàn)殇X合金鏡面的光澤度要求更高。一般來(lái)說(shuō)，工件光澤度要求越高，拋光耗材的粒度越小，這就決定了鋁合金拋光液粒度要達(dá)納米級(jí)別的原因。拋光不銹鋼金屬的氧化硅溶液一般為乳白
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[行業(yè)資訊]吉致資訊第119期 藍(lán)寶石化學(xué)機(jī)械拋光液作用研究[ 2017-10-13 16:44 ]
目前，藍(lán)寶石基片是LED工業(yè)的首選襯底，藍(lán)寶石表面的質(zhì)量對(duì)LED器件的質(zhì)量和性能有著非常重要的影響。因此，在生產(chǎn)藍(lán)寶石基片時(shí)，對(duì)后一道工序拋光加工工序有很高的要求，要求藍(lán)寶石基片的表面光滑、無(wú)缺陷，這也是藍(lán)寶石襯底重要的制程。但是，由于藍(lán)寶石晶體材料硬度高，脆性大，屬于典型的難加工材料之一。因此，如何讓拋光加工滿足日益增長(zhǎng)的嚴(yán)格要求長(zhǎng)期以來(lái)備受關(guān)注。如今的化學(xué)機(jī)械拋光是一可實(shí)現(xiàn)全局平坦化的拋光方法，而且它的成本相對(duì)較低，也是迄今為止可以在藍(lán)寶石生產(chǎn)中大規(guī)模應(yīng)用的拋光方法。硅溶膠為納米的二氧化硅顆粒，在水中
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