吉致電子納米氧化硅拋光液的特點:

1，可提高工件拋光速率和平坦度加工質量，氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅（SiO₂）磨料及多種復合材料配置而成，不會對工件造成物理損傷，拋光率高。

2，利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達到高速拋光的目的。

3，硅溶膠純度高，拋光液不腐蝕設備，無毒無害使用安全性能高。

4，CMP拋光液可實現(xiàn)工件的高平坦化加工。

5，有效減少拋光后的表面劃痕，降低表面粗糙度。

吉致電子通過科學工藝分散均勻的氧化硅顆粒，得到均勻分散的納米拋光液，具有高強度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點，是一種性能優(yōu)良的CMP技術用的拋光材料。采購CMP拋光液認準吉致電子拋光液生產(chǎn)廠家。

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