不銹鋼獲取高質(zhì)量的鏡面的傳統(tǒng)工藝主要采用的拋光技術(shù):電解拋光、化學(xué)拋光和機械拋光。隨著對鏡面不銹鋼表面質(zhì)量要求的不斷提高，同時為了提高拋光效率，新型不銹鋼拋光工藝----CMP化學(xué)機械拋光 被廣泛應(yīng)用。利用CMP設(shè)備及拋光液、拋光墊與不銹鋼的化學(xué)反應(yīng)和高速磨拋，得到高質(zhì)量表面。

吉致電子針對不銹鋼表面鏡面處理，配制組成的CMP拋光液，通過化學(xué)溶液提高不銹鋼表面活性，同時進(jìn)行高速的機械拋光，用來消除表面凹凸而獲得更高質(zhì)量的光潔鏡面。

CMP化學(xué)機械拋光對環(huán)境污染最小，不銹鋼鏡面拋光質(zhì)量最好，能夠快速有效降低原始工件表面粗糙度，經(jīng)過粗拋和精拋工藝能達(dá)到鏡面效果，無劃傷、無凹坑、無麻點橘皮，拋磨后不易氧化，鏡面維持效果持久。

根據(jù)金屬的種類不同，Slurry漿料的種類也略有不同，其特性也有一定差異。吉致電子針對金屬鉬、銅、鎢、不銹鋼、鋁合金、鑄鐵件等配制專用金屬拋光液/研磨液，解決不同金屬工件表面拋光難題。

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