吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

Oxide氧化層拋光液·參數(shù)吉致電子，OXIDE SLURRY 可定制·速率高·效果好·專利配方CUSTOMIZABLE, HIGH SPEED, GOOD EFFECT AND PATENTED FORMULA

產(chǎn)品名稱：氧化層拋光液/Oxide氧化物CMP研磨液/Oxide slurry

氧化層拋光液作用: 吉致電子OX氧化層拋光液適用于4-12吋氧化硅鍍膜片的拋光。特選粒徑均一的SiO₂水溶膠為磨料，拋光清洗后晶圓表面粗糙度低、顆粒殘留少?？蛻粼谑褂眠^程中通過優(yōu)化稀釋比例，均能達(dá)到最佳拋光效果。

納米級(jí)SiO₂磨料，粒徑均一穩(wěn)定，去除速率穩(wěn)定，金屬離子含量低，通過CMP工藝可有效去除表面氧化層，達(dá)到理想平坦度。

吉致電子Oxide Slurry與國(guó)內(nèi)外同類產(chǎn)品相比，具有易清洗、表面粗糙度低等特點(diǎn)。

吉致電子slurryJZ-B3580A與競(jìng)品D3xxx數(shù)據(jù)對(duì)比：

JZ-B3580A基礎(chǔ)參數(shù)與D3xxx 相近,平均 粒徑低于D3xxx,總金屬離子含量與D3xxx 相近。

JZ-B3580A表面粗度與D3xxx 在同一水平。

吉致電子氧化層拋光液JZ-B3580&JZ-B3580A：

JZ4500對(duì)OX拋光速率更快;

JZ4000對(duì)Si的選擇比更高,RRox:RRsi=1:0.99,接近1:1

吉致電子氧化層拋光液/OxideSlurry拋光液儲(chǔ)存方法：

通風(fēng)，陰涼，干燥的庫(kù)房，本品需在5-35℃儲(chǔ)存，防止陽(yáng)光直射及凍結(jié)，零度以下因產(chǎn)生不可再分散結(jié)塊而失效。

吉致電子CMP拋光液/Slurry拋光液價(jià)格：

吉致電子的CMP金屬拋光液生產(chǎn)技術(shù)是引進(jìn)國(guó)外生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備，特殊化學(xué)配方制備而成。吉致電子拋光液品質(zhì)可以媲美進(jìn)口同類產(chǎn)品。

本土化生產(chǎn)的優(yōu)勢(shì)使吉致電子CMP拋光液產(chǎn)品交貨周期快，品質(zhì)好，拋光液價(jià)格實(shí)惠親民。

吉致電子CMP拋光耗材適用范圍

吉致電子科技有限公司擁有成熟的加工工藝和先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備，為不銹鋼、銅、鋁、陶瓷、導(dǎo)光板、五金產(chǎn)品、藍(lán)寶石、光學(xué)玻璃等各類拋光加工服務(wù)。為您提供可靠有效的拋光解決方案！

吉致電子研發(fā)團(tuán)隊(duì)--15年經(jīng)驗(yàn)CMP拋光液配方工程師，為您攻克拋光難題！

無錫吉致電子科技有限公司

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