- [應用案例]Sic Slurry 吉致電子碳化硅晶圓拋光液[ 2023-04-11 11:07 ]
- 吉致電子碳化硅精拋液，適用于Sic碳化硅晶圓襯底精密加工表面平坦化。wafer使用的Slurry具有高度拋光、低粗糙度的特點，SiC碳化硅襯底拋光液拋光后的晶圓表面無劃傷、霧等缺陷，碳化硅晶片平坦度高。吉致電子研發(fā)的碳化硅拋光液稀釋比高、拋光后表面易清洗，被廣泛應用于半導體集成電路襯底的制造中。 吉致電子SiC Slurry wafer拋光液具有很好的流動性和分散性，不易結(jié)晶、易清洗、拋光效率高等優(yōu)點，可以滿足碳化硅晶片的精拋加工要求，也可根據(jù)客戶工藝調(diào)整做定制化硅晶圓(si wafer)
-
http://m.jeffvon.com/Article/sicslurryj_1.html
- [行業(yè)資訊]碳化硅襯底拋光液的特點[ 2022-10-25 16:59 ]
- 碳化硅半導體晶片的制作一般在切片后需要用CMP拋光液進行拋光，以移除表面的缺陷與損傷。碳化硅（Sic）晶片以高純硅粉和高純碳粉作為原材料，采用物理氣相傳輸法（PVT）生長碳化硅單晶，再在襯底上使用化學氣相沉積法（CVD法）等生成外延片，最后制成相關器件。碳化硅襯底具有碳極性面和硅極性面，因為碳面與硅面的極性不同，所以化學活性也不同，故雙面cmp拋光速率具有差異。吉致電子碳化硅襯底拋光液（Sic Slurry）為電力電子器件及LED用碳化硅晶片的CMP化學機械平坦化配制的高精度拋光液。CMP拋光液大大提高了碳化硅晶圓
-
http://m.jeffvon.com/Article/thgcdpgydt_1.html
相關搜索
- 無相關搜索
吉致熱門資訊
-
吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些 -
喜迎“六一”歡度“端午”----吉致電子員工團建活動
-
吉致電子---氧化硅拋光液的特點和作用
-
氧化硅拋光液的結(jié)晶問題
-
鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用
-
什么是金剛石研磨液
-
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點
-
吉致電子CMP拋光液適用設備有哪些？
-
納米拋光液---納米氧化鋁拋光液
-
相聚吉致 歡度中秋---2022年吉致電子科技中秋團建活動
-
吉致電子 射頻濾波器拋光液slurry廠家
-
吉致電子CMP不銹鋼拋光液的特點
-
吉致電子淺槽隔離拋光液怎么用
-
不銹鋼拋光液的CMP鏡面拋光
-
吉致電子--不銹鋼工件的研磨拋光工序
-
吉致電子Slurry拋光漿料--阻擋層拋光液
-
硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密
-
2023吉致電子春節(jié)放假通知
-
吉致電子常見的CMP研磨液
-
CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點
