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吉致電子拋光材料 源頭廠(chǎng)家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子--磷化銦拋光液在半導(dǎo)體CMP制程中的應(yīng)用[ 2024-12-05 16:20 ]
無(wú)錫吉致電子科技提供的磷化銦襯底拋光液是一種專(zhuān)門(mén)用于半導(dǎo)體材料磷化銦表面處理的CMP化學(xué)機(jī)械拋光漿料。它包含特定的磨料和化學(xué)成分，能夠有效去除磷化銦表面的微小缺陷和不平整，確保獲得光滑、無(wú)損傷的表面。磷化銦拋光液在半導(dǎo)體制造過(guò)程中非常重要，它直接影響到最終器件的性能和穩(wěn)定性。磷化銦襯底拋光液的選擇和使用是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程，需要綜合考慮多個(gè)因素，且在CMP拋磨使用時(shí)，需要根據(jù)磷化銦襯底的具體要求和拋光設(shè)備的特性來(lái)選擇合適的InP拋光液，并嚴(yán)格控制拋光過(guò)程中的參數(shù)，如溫度、壓力和拋光時(shí)間等。首先，磷化銦CMP拋光液的成分
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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子鈮酸鋰拋光液的重要作用[ 2024-10-03 12:06 ]
吉致電子鈮酸鋰晶體化學(xué)機(jī)械拋光液在多個(gè)領(lǐng)域展現(xiàn)出廣泛的用途。鈮酸鋰在半導(dǎo)體行業(yè)中是晶圓制備過(guò)程中的關(guān)鍵材料。通過(guò)CMP化學(xué)機(jī)械拋光，能夠有效提高晶圓的表面平整度和光潔度，為后續(xù)的半導(dǎo)體器件制造提供優(yōu)質(zhì)的基礎(chǔ)。例如，在集成電路的生產(chǎn)中，鈮酸鋰晶體化學(xué)機(jī)械拋光液能夠精確地去除工件表面的微小凸起和雜質(zhì)，達(dá)到表面平坦化效果，確保后期芯片制造的性能和可靠性。鈮酸鋰cmp拋光液還能為光學(xué)表面提供高光潔度拋光，因其具有優(yōu)良的電光、聲光、壓電等性能，在光電子領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。經(jīng)過(guò)CMP拋光液處理后的鈮酸鋰光學(xué)元件，表面粗糙度極低
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[常見(jiàn)問(wèn)題]CMP化學(xué)機(jī)械拋光在半導(dǎo)體領(lǐng)域的重要作用[ 2023-12-21 11:53 ]
  化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是半導(dǎo)體晶圓制造的關(guān)鍵步驟，這項(xiàng)工藝能有效減少和降低晶圓表面的不平整，達(dá)到半導(dǎo)體加工所需的高精度平面要求。拋光液(slurry)、拋光墊(pad)是CMP技術(shù)的關(guān)鍵耗材，分別占CMP耗材49%和33%的價(jià)值量，CMP耗材品質(zhì)直接影響拋光效果，對(duì)提高晶圓制造質(zhì)量至關(guān)重要。  CMP拋光液/墊技術(shù)壁壘較高，高品質(zhì)的拋光液需要綜合控制磨料硬度、粒徑、形狀、各成分質(zhì)量濃度等要素。拋光墊則更加看重低缺陷率和長(zhǎng)使用壽命。配置多功能,高效率的拋光液是提升CMP效果的重要環(huán)節(jié)。&nbs
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[應(yīng)用案例]吉致電子--CMP不銹鋼表面快速拋光[ 2023-12-18 17:58 ]
不銹鋼獲取高質(zhì)量的鏡面的傳統(tǒng)工藝主要采用的拋光技術(shù):電解拋光、化學(xué)拋光和機(jī)械拋光。隨著對(duì)鏡面不銹鋼表面質(zhì)量要求的不斷提高，同時(shí)為了提高拋光效率，新型不銹鋼拋光工藝----CMP化學(xué)機(jī)械拋光 被廣泛應(yīng)用。吉致電子針對(duì)不銹鋼表面鏡面處理，配制組成的CMP拋光液，通過(guò)化學(xué)溶液提高不銹鋼表面活性，同時(shí)進(jìn)行高速的機(jī)械拋光，用來(lái)消除表面凹凸而獲得更高質(zhì)量的光潔鏡面。CMP化學(xué)機(jī)械拋光對(duì)環(huán)境污染最小，不銹鋼鏡面拋光質(zhì)量最好，快速有效降低原始工件表面粗糙度，經(jīng)過(guò)粗拋和精拋工藝能達(dá)到鏡面效果，無(wú)劃傷、無(wú)凹坑、無(wú)麻點(diǎn)橘皮。根據(jù)金屬的種
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[應(yīng)用案例]硬質(zhì)合金拋光液--鏡面拋光鎢鋼刀片[ 2023-04-14 15:01 ]
   硬質(zhì)合金刀片具有硬度高、韌性較好、耐熱、耐腐蝕等一系列優(yōu)良性能，特別是它的高硬度和耐磨性，在1000℃時(shí)仍保持較高的硬度。硬質(zhì)合金鎢鋼工件對(duì)于很多拋光工藝來(lái)說(shuō)屬于比較難加工的一種材質(zhì)。鎢鋼刀片拋光目前可通過(guò)CMP化學(xué)機(jī)械拋光工藝，搭配金屬專(zhuān)用拋光液達(dá)到理想的表面光潔度。  硬質(zhì)合金刀片又叫鎢鋼刀片，原始件表面有銹斑、劃痕和麻點(diǎn)等不良現(xiàn)象，要解決這些問(wèn)題需通過(guò)平面研磨機(jī)配合吉致電子硬質(zhì)合金研磨液、研磨墊、研磨盤(pán)等達(dá)到鏡面效果。  硬質(zhì)合金的CMP機(jī)械化學(xué)鏡面拋光，經(jīng)過(guò)粗拋
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[常見(jiàn)問(wèn)題]吉致電子拋光液--CMP拋光工藝在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用[ 2023-02-09 13:14 ]
  CMP化學(xué)機(jī)械拋光應(yīng)用于各種集成電路及半導(dǎo)體行業(yè)等減薄與平坦化拋光，吉致電子拋光液在半導(dǎo)體行業(yè)的應(yīng)用，主要為STI CMP、Oxide CMP、ILD CMP、IMD CMP提供拋光漿料與耗材。  CMP一般包括三道拋光工序，包括CMP拋光液、拋光墊、拋光蠟、陶瓷片等。拋光研磨工序根據(jù)工件參數(shù)要求，需要調(diào)整不同的拋光壓力、拋光液組分、pH值、拋光墊材質(zhì)、結(jié)構(gòu)及硬度等。CMP拋光液和CMP拋光墊是CMP工藝的核心要素，直接影響工件表面的拋光質(zhì)量。  在半導(dǎo)體行業(yè)CMP環(huán)節(jié)之中，也存在
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[應(yīng)用案例]鋁合金拋光液--鋁質(zhì)工件鏡面拋光[ 2022-12-29 10:44 ]
  鋁合金地較軟，硬度低，因此在加工成型過(guò)程中極易產(chǎn)生機(jī)械損傷造成劃痕、磨損等表面缺陷，同時(shí)易發(fā)生腐蝕，表面的化學(xué)穩(wěn)定性差。為了消除加工過(guò)程中的缺陷,通常采用CMP化學(xué)機(jī)械拋光方法，以期獲得良好的表面光潔度。  隨著高新技術(shù)的發(fā)展，吉致電子鋁合金拋光液已經(jīng)有成熟的技術(shù)支持，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)CMP拋磨材料極高精度、近乎無(wú)缺陷的超精密平面化加工。CMP可以真正使鋁合金襯底實(shí)現(xiàn)全局平面化，得到近似完美的表面和極低的表面粗超度，且大大提高了生產(chǎn)率，降低了生產(chǎn)成本。鋁合金工件加工的表面均勻一致性好、近乎無(wú)表面損
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[應(yīng)用案例]玉石拋光液---玉石表盤(pán)的CMP拋光工藝[ 2022-11-15 14:12 ]
  一款玉石制成的腕表，優(yōu)雅大氣，彰顯如玉的君子氣質(zhì)。和田玉表盤(pán)的去粗及拋磨拋亮，是可以通過(guò)CMP化學(xué)機(jī)械拋光工藝來(lái)實(shí)現(xiàn)。  玉石表面亮度還受兩個(gè)因素的影響：一是玉料的材質(zhì)，二是玉料的結(jié)構(gòu)，雖然大多數(shù)玉料都是晶體結(jié)構(gòu)，但晶體的粒度和分布狀況不同，呈纖維狀的玉料易于拋光，呈粒狀纖維的玉料不容易拋光。  通過(guò)吉致電子玉石拋光液與拋光墊的組合拋磨，去除毛坯料表面凹凸不平劃痕，還原玉石本真的光澤，拋光后表盤(pán)工件看起來(lái)綿密細(xì)膩、油脂感足。通過(guò)CMP拋光玉石的優(yōu)點(diǎn)是可以快速減薄尺寸，拋光效率快、亮
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[行業(yè)資訊]碳化硅襯底CMP拋磨工藝流程[ 2022-10-26 14:32 ]
碳化硅襯底CMP化學(xué)機(jī)械拋光工藝需要用到吉致電子CMP拋光液和拋光墊，拋磨工藝一般分為3道流程：雙面拋磨、粗拋、精拋。下面來(lái)看看吉致電子小編碳化硅晶圓拋光工藝介紹和拋光產(chǎn)品推薦吧。碳化硅襯底雙面研磨：一般使用雙面鑄鐵盤(pán)配合吉致電子金剛石研磨液或者碳化硅晶圓研磨液進(jìn)行加工；主要目的是去除線(xiàn)切損傷層以及改善晶片的平坦度。碳化硅襯底粗拋工藝：針對(duì)碳化硅襯底加工采用專(zhuān)門(mén)的碳化硅晶圓拋光液配合粗拋墊。既可以達(dá)到傳統(tǒng)工藝中較高的的拋光速率（與精磨基本相當(dāng)）又可以達(dá)到傳統(tǒng)工藝中粗拋后的表面光潔度。碳化硅襯底精拋工藝：SIC晶圓精
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[行業(yè)資訊]吉致資訊第151期：生活中離不開(kāi)的“濾波器”[ 2021-08-21 08:52 ]
吉致資訊第151期：生活中離不開(kāi)的“濾波器” 我們生活中離不開(kāi)一樣潛在的東西，那就是濾波器，我們不管是wifi、藍(lán)牙、手機(jī)的2g/3g/4g/5g等的信號(hào)發(fā)射和接受都需要濾波器，一臺(tái)小小的手機(jī)就需要數(shù)十個(gè)濾波器的元器件，而濾波器的主要性能就是性能，而平坦度直接影響其性能，所以在生產(chǎn)濾波器的過(guò)程中會(huì)進(jìn)行CMP化學(xué)機(jī)械拋光，其需要用到拋光液slurry，目前這一耗材長(zhǎng)期受?chē)?guó)外“卡脖子”，國(guó)外企業(yè)說(shuō)斷供就斷供，而目前國(guó)內(nèi)無(wú)錫吉致電子科技有限公司聘請(qǐng)國(guó)外留學(xué)歸來(lái)博士
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