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[行業(yè)資訊]納米拋光液---吉致電子氧化硅slurry的應(yīng)用及特點(diǎn)[ 2024-10-10 16:56 ]

吉致電子納米級(jí)氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型CMP拋光產(chǎn)品。粒度均一的SiO2磨料顆粒在CMP研磨過(guò)程中分散均勻，能達(dá)到快速拋光的目的且不會(huì)對(duì)加工件造成物理?yè)p傷。納米級(jí)硅溶膠拋光液不易腐蝕設(shè)備，提高了使用的安全性。制備工藝和配方有效提高了平坦化加工速率，快速降低表面粗糙度，且工件表面劃傷少。吉致電子氧化硅slurry粒徑分布可控，根據(jù)不同的拋光需求，生產(chǎn)出不同粒徑大小的納米氧化硅拋光液，粒徑范圍通常在 5-100nm 之間。以氧化硅為磨料的納米拋

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[行業(yè)資訊]藍(lán)寶石襯底研磨用什么拋光液[ 2023-08-25 13:36 ]

CMP工藝怎么研磨藍(lán)寶石襯底？需要搭配什么拋光液？藍(lán)寶石拋光萬(wàn)能公式：粗拋、中拋、精拋，每道工序使用不同磨料的拋光液和拋光PAD：①藍(lán)寶石CMP粗磨：藍(lán)寶石襯底粗磨可以選擇硬度高切削力強(qiáng)的吉致金剛石研磨液，搭配金剛石磨盤(pán)，速率高效果好可有效去除藍(lán)寶石表面的不平和劃痕。②藍(lán)寶石CMP中拋：這一步可以用銅盤(pán)+小粒徑的金剛石研磨液，用來(lái)去除粗拋留下的紋路，為鏡面拋光做前期準(zhǔn)備。③藍(lán)寶石CMP精拋：CMP精拋是藍(lán)寶石襯底最后一道工序，需要用到拋光墊+納米氧化硅拋光液來(lái)收光，呈現(xiàn)平坦無(wú)暇的鏡面效果。

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[應(yīng)用案例]智能手表不銹鋼后蓋拋光[ 2023-08-18 10:43 ]

智能手表后蓋不銹鋼拋光，需要用到CMP工藝的粗拋和精拋。搭配吉致電子拋光液和拋光墊使用可以獲得完美無(wú)痕的鏡面效果。工件原件為不銹鋼材質(zhì)，拋光前有明顯的紋路，原始件拋磨面是帶弧度的形態(tài)，與常見(jiàn)的平面拋光不同，曲面弧面拋光要設(shè)計(jì)不同規(guī)格溝槽及復(fù)合不同緩沖材質(zhì)的拋光墊，通過(guò)不同成分的拋光液對(duì)弧面表面進(jìn)行處理，以去除氧化層、污物和劃痕。不銹鋼粗拋液一般使用氧化鋁拋光液，快速去除表面雜質(zhì)和沖壓紋。不銹鋼精拋會(huì)使用到吉致電子氧化硅拋光液鏡面細(xì)拋，使不銹鋼曲面沒(méi)有水波紋、劃痕和和擦傷，可以清晰的倒影出環(huán)境的影像。314/316/

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[常見(jiàn)問(wèn)題]二氧化硅拋光液與硅溶膠拋光液有啥不同[ 2023-08-11 16:04 ]

二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝制備成的一種低金屬離子高純度CMP拋光產(chǎn)品。硅溶膠拋光液是以液體形式存在，直徑為10-150nm的二氧化硅粒子（分散相）在水或有機(jī)液體（分散介質(zhì)）里的分散體系，粒子的形貌多為球形，適用于各類(lèi)工件的鏡面拋光，如金屬、藍(lán)寶石襯底、半導(dǎo)體、光學(xué)玻璃、精密電子元器件等的鏡面拋光。本質(zhì)上講二氧化硅拋光液、硅溶膠拋光液都是一種東西，主要成分都是SiO2只是叫法不同。在CMP研磨拋光工藝中，機(jī)器通過(guò)壓力泵把氧化硅拋光液輸送到拋光槽內(nèi)進(jìn)行循環(huán)使用，

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[常見(jiàn)問(wèn)題]如何解決氧化硅拋光液結(jié)晶問(wèn)題[ 2023-05-09 17:17 ]

二氧化硅拋光液在拋光過(guò)程中會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶結(jié)塊的現(xiàn)象，雖然不是大問(wèn)題但如果處理不當(dāng)，很可能會(huì)導(dǎo)致工件表面劃傷甚至報(bào)廢，那么怎么解決氧化硅拋光液結(jié)晶問(wèn)題呢？首先要了解硅溶膠拋光液的特點(diǎn)屬性。二氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)水解法離子、交換法制備成的一種高純度低金屬離子型產(chǎn)品。在水性環(huán)境中容易形成一種離子網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而一脫離了水份，表面積迅速凝結(jié)形成結(jié)晶塊，所以只要保持水分基本上是不會(huì)出現(xiàn)結(jié)晶現(xiàn)象。在實(shí)際CMP拋光工藝當(dāng)中硅溶膠拋光液會(huì)一直在研磨盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)、流動(dòng)，結(jié)晶情況較少。因此氧化

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[吉致動(dòng)態(tài)]CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點(diǎn)[ 2023-03-03 09:15 ]

通?；瘜W(xué)機(jī)械研磨拋光工藝使用的CMP拋光液有金剛石拋光液、氧化硅拋光液、氧化鋁拋光液及氧化鈰拋光液（又稱(chēng)稀土拋光液）。納米氧化鈰為水性液體是吉致電子采用先進(jìn)的分散工藝，將納米氧化鈰粉體分散在水相介質(zhì)中，形成高度分散化、均勻化和穩(wěn)定化的納米氧化鈰水性懸浮液。1.在拋光材料應(yīng)用中，納米CeO2拋光液相對(duì)硅溶膠，具有拋光劃傷少、拋光速度快、易清洗良品率高等優(yōu)勢(shì)，且PH中性，使用壽命長(zhǎng)、對(duì)拋光表面污染小，不易風(fēng)干。2.在拋光軍用紅外激光硅片、異型硅、超薄硅片方面上，尤其是拋光超薄硅片，納米氧化鈰

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[常見(jiàn)問(wèn)題]藍(lán)寶石拋光液是不是二氧化硅拋光液[ 2023-02-06 16:10 ]

藍(lán)寶石拋光液是不是二氧化硅拋光液？藍(lán)寶石拋光液是以高純度硅粉為原料，經(jīng)特殊工藝制備成的一種低金屬離子CMP拋光液，是一種高純度的氧化硅拋光液，廣泛應(yīng)用于多種材料的納米級(jí)高平坦化拋光。吉致電子生產(chǎn)的藍(lán)寶石拋光液主要用于藍(lán)寶石襯底研磨減薄，藍(lán)寶石A向拋光液，藍(lán)寶石C向拋光液等。拋光范圍如：硅片、鍺片、化合物晶體磷化銦、砷化鎵、精密光學(xué)器件、寶石飾品、金屬鏡面等研磨拋光加工。藍(lán)寶石拋光液Sapphire Slurry的特點(diǎn)：1.高純度（Cu含量小于50 ppb），有效減小對(duì)電子類(lèi)產(chǎn)品的污染。2.高拋光速率，利用大粒徑的膠

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[常見(jiàn)問(wèn)題]SiO2二氧化硅拋光液--硅溶膠粒徑大小的區(qū)別[ 2023-01-06 16:24 ]

二氧化硅拋光液SiO2 Slurry的制備中主要成分是納米硅溶膠，一般分為大粒徑硅溶膠和小粒徑硅溶膠，那么怎么定義硅溶膠粒徑大小呢，吉致電子小編為您詳解：大粒徑硅溶膠與小粒徑硅溶膠的定義 CMP精拋液中納米硅溶膠顆粒的粒徑為10-50nm，這個(gè)粒徑范圍的硅溶膠在市場(chǎng)上最常見(jiàn)，價(jià)格也相對(duì)便宜。如果對(duì)硅溶膠的純度和pH值沒(méi)有特殊要求，這種規(guī)格的硅溶膠價(jià)格相對(duì)比較便宜。大粒徑硅溶膠:粒徑＞50nm的硅溶膠一般可稱(chēng)為大粒徑硅溶膠。吉致電子科技生產(chǎn)的大粒徑硅溶膠最大可達(dá)150n

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[吉致動(dòng)態(tài)]硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密[ 2023-01-06 13:52 ]

吉致電子硅溶膠研磨液/拋光液采用的是納米級(jí)工藝，主要粒徑在10-150nm。適用于各種材質(zhì)工件的CMP表面鏡面處理。以硅溶膠漿料為鏡面的平面研磨的材料有半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)玻璃、3C電子金屬元件、藍(lán)寶石襯底、LED顯示屏等高精密元件。硅溶膠拋光液也稱(chēng)二氧化硅拋光液、氧化硅精拋液，SiO2是硅溶膠的化學(xué)名，適用范圍已擴(kuò)展到半導(dǎo)體產(chǎn)品的CMP拋光工藝中。 CMP拋光機(jī)可以將氧化硅研磨液循環(huán)引入磨盤(pán)，同時(shí)起到潤(rùn)滑和冷卻的作用，通過(guò)拋光液和拋光墊組合拋磨可以使工件表面粗糙度達(dá)到0.2um

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[常見(jiàn)問(wèn)題]3C鏡面拋光液用什么拋光液[ 2022-12-09 16:18 ]

3C產(chǎn)品表面鏡面拋光一般不采用電解拋光方式，而是選擇CMP機(jī)械拋光工藝。SiO2拋光液用于3C工件的鏡面拋光工藝，主要由納米級(jí)磨料制備而成，規(guī)格一般在10nm-150nm拋光后的產(chǎn)品鏡面精度高，表面收光細(xì)膩。氧化硅精拋液進(jìn)行精拋工藝后，工件可以從霧面提升到鏡面透亮的效果。拋光液配合精拋皮使用，鏡面效果檢測(cè)可達(dá)納米級(jí)。3C金屬拋光液用于鏡面要求較高的工件拋光，因此必須做好前道工序。先粗拋打好基礎(chǔ)，再精拋去除缺陷和不良效果。有客戶(hù)使用二氧化硅拋光液后工件表面會(huì)產(chǎn)生麻點(diǎn)，這是由于

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[行業(yè)資訊]半導(dǎo)體拋光液--球型二氧化硅拋光液的用途[ 2022-11-23 15:21 ]

球形硅微粉作為拋光液磨料，可大大提高產(chǎn)品的剛性、耐磨性、耐候性、抗沖擊性、耐壓性、抗拉性、阻燃性、良好的耐電弧絕緣性和耐紫外線輻射性。讓我們來(lái)看看球型二氧化硅拋光液在電子芯片中的一些應(yīng)用。精密研磨粉高純球形硅粉用于光學(xué)器件和光電行業(yè)的精密研磨，特別適用于半導(dǎo)體單晶多晶硅片、顯像管玻殼玻屏、光學(xué)玻璃、液晶顯示器(LCD、LED)玻璃基板、壓電晶體、化合物半導(dǎo)體材料(砷化鎵、磷化銦)、磁性材料等半導(dǎo)體行業(yè)的研磨拋光。吉致電子用高純球形硅粉制備成的超高純硅溶膠拋光液slurry,

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[行業(yè)資訊]納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-11-18 16:10 ]

納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO2等多種復(fù)合材料配置而成，通過(guò)電解法或離子交換法制備成納米拋光液，硅拋光液磨料分散性好，具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應(yīng)用于金屬或半導(dǎo)體電子封裝拋光工藝中。吉致電子硅拋光液，CMP拋光slurry應(yīng)用范圍：1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過(guò)程，適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過(guò)程、平面顯示器、多

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[行業(yè)資訊]金屬手機(jī)邊框的鏡面拋光方法是什么？[ 2022-10-31 16:01 ]

手機(jī)金屬外殼/手機(jī)邊框材質(zhì)一般為不銹鋼、鈦合金、鋁合金等，如華為\Iphone手機(jī)金屬邊框要達(dá)到完美的鏡面效果需要精拋步驟----手機(jī)鏡面拋光液slurry的主要成份是二氧化硅，二氧化硅拋光液外觀為乳白色，呈懸浮液狀態(tài)，在拋光過(guò)程中起到收光磨料的作用。金屬手機(jī)精拋液的主要技術(shù)要求是什么呢？①鏡面拋光液PH值的選擇：PH值高低很可能會(huì)影響到最終的拋光效果，高低差別會(huì)導(dǎo)致手機(jī)金屬工件發(fā)黑氧化，以及麻點(diǎn)和起霧，所以如何控制PH值非常重要。②鏡面拋光液磨粒大小的選擇：氧化硅磨料顆粒大小，直接影響

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[常見(jiàn)問(wèn)題]什么是單一磨料的CMP拋光液？[ 2022-08-31 16:11 ]

單一磨料拋光液化學(xué)機(jī)械CMP拋光液在研究初期大多是使用單一磨料，如氧化鋁拋光液（Al2O3）、二氧化硅拋光液（SiO2）、二氧化鈰拋光液（CeO2）、氧化鋯拋光液（ZrO2）和金剛石拋光液等。其中研究應(yīng)用最多的是Al2O3、SiO2和CeO2磨料拋光液。氧化鋁拋光液--Al2O3的硬度高，多用于藍(lán)寶石、碳化硅、光學(xué)玻璃、晶體和合金材料的拋光，但含Al2O3的拋光液會(huì)出現(xiàn)選擇性低、分散穩(wěn)定性不好、易團(tuán)聚的問(wèn)題，容易在拋光表面造成劃傷，一般需要配合各種添加劑使用才能獲得良好的拋光表面。氧化硅拋光液--SiO2具有良好的

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[常見(jiàn)問(wèn)題]CMP拋光液中磨料對(duì)拋光效果的影響[ 2022-08-30 15:49 ]

磨料對(duì)拋光效果的影響在CMP拋光過(guò)程中磨料的作用是借助機(jī)械力，通過(guò)化學(xué)反應(yīng)去除工件或晶圓表面形成的鈍化膜，從而達(dá)到表面平坦化的目的。CMP拋光液常用的磨料有硅溶膠SiO2、氧化鋁Al2O3、氧化鈰CeO2、金剛石等。磨料的種類(lèi)磨料的種類(lèi)和材質(zhì)決定了拋光液中微粒的硬度和粒徑，從而影響拋光效果。拋光鋁合金工件實(shí)驗(yàn)中相對(duì)于氧化鋁拋光液Al2O3磨料，氧化硅拋光液SiO2磨料能獲得較好的表面平整度、更少的表面劃痕和更小的尺寸。原因是硅溶膠拋光液SiO2磨粒尺寸較小，拋光時(shí)磨料嵌入晶圓表面的深度較小。此外，通過(guò)優(yōu)

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[常見(jiàn)問(wèn)題]吉致電子硅溶膠拋光液的適用范圍[ 2022-08-19 15:44 ]

硅溶膠拋光液又稱(chēng)氧化硅拋光液，通過(guò)離子交換法和水解法制備不同粒徑的穩(wěn)定硅溶膠，經(jīng)過(guò)鈍化添加化學(xué)助劑和特殊工藝配制成的二氧化硅拋光漿料，廣泛應(yīng)用于集成電路半導(dǎo)體、特殊材料、金屬工件、脆硬鏡面的拋光。吉致電子25年CMP拋光液生產(chǎn)廠家，可根據(jù)客戶(hù)不同工藝要求定制調(diào)整拋光漿料。氧化硅拋光液主要適用范圍:1.可用于玻璃陶瓷的表面拋光。2.用于硅片和IC加工的粗拋和精拋，適用于大規(guī)模集成電路多層膜的平坦化。3.用于半導(dǎo)體元件的加工，如晶圓后道CMP清洗、光導(dǎo)攝像管、多晶化模塊、平板顯示器、微電機(jī)系統(tǒng)等。4.廣泛應(yīng)用于CMP化

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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-08-19 15:29 ]

吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn):1，可提高工件拋光速率和平坦度加工質(zhì)量，氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅（SiO2）磨料及多種復(fù)合材料配置而成，不會(huì)對(duì)工件造成物理?yè)p傷，拋光率高。2，利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達(dá)到高速拋光的目的。3，硅溶膠純度高，拋光液不腐蝕設(shè)備，無(wú)毒無(wú)害使用安全性能高。4，可實(shí)現(xiàn)高平坦化加工。5，有效減少拋光后的表面劃痕，降低表面粗糙度。吉致電子通過(guò)科學(xué)工藝分散均勻的氧化硅顆粒，得到均勻分散的納米拋光液，具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點(diǎn)，是一種性能優(yōu)良的CMP技術(shù)用的

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[吉致動(dòng)態(tài)]鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用[ 2022-08-12 14:17 ]

鏡面拋光液的主要材料是納米二氧化硅磨料，制備成的液體漿料也稱(chēng)為硅溶膠拋光液。二氧化硅拋光液主要適用于拋光藍(lán)寶石襯底、硅片、半導(dǎo)體、精密電子工件、晶體等產(chǎn)品。二氧化硅拋光漿料主要利用硅膠離子的高速拋光來(lái)達(dá)到表面處理的效果。二氧化硅是用納米技術(shù)制成的。根據(jù)工件拋磨要求，可制備出不同切削力的產(chǎn)品達(dá)到鏡面拋光。粒度控制可以有效減少電子工件上的污垢，使用納米級(jí)硅膠顆粒加工工件，不會(huì)損傷工件，同時(shí)還能達(dá)到理想效果氧化硅拋光液需要配合精拋墊使用，精拋墊的主要成分是聚氨酯，聚氨酯的眾多孔隙可以將拋光液均勻地粘在其表面，與工件一起研

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[吉致動(dòng)態(tài)]氧化硅拋光液的結(jié)晶問(wèn)題[ 2022-08-12 13:25 ]

氧化硅拋光液長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中，會(huì)使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅，造成硅晶體析出現(xiàn)象，稱(chēng)之為結(jié)晶。在實(shí)際應(yīng)用時(shí)，硅溶膠拋光液會(huì)一直在磨盤(pán)內(nèi)旋轉(zhuǎn)循環(huán)及流動(dòng)，結(jié)晶現(xiàn)象較少，但是高溫或拋光液濃度沒(méi)有配置好，會(huì)造成團(tuán)聚，損傷工件，影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性，吉致電子拋光液廠家開(kāi)發(fā)了抗結(jié)晶納米二氧化硅拋光液，可以長(zhǎng)時(shí)間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時(shí)易搖散且不團(tuán)聚，化學(xué)性能穩(wěn)定分散均勻，氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時(shí)，磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果，無(wú)劃傷、高平坦。外需要注意的是，氧化硅拋光液的

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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子---氧化硅拋光液的特點(diǎn)和作用[ 2022-08-04 14:54 ]

氧化硅拋光液的主要成分是高純二氧化硅粉為，經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型拋光液。氧化硅溶液其實(shí)就是市面上的硅溶膠，當(dāng)然是二次加工后的硅溶膠。因?yàn)楣枞苣z是膠狀的，不能直接研磨拋光。這項(xiàng)技術(shù)的主要應(yīng)用是CMP半導(dǎo)體拋光。該技術(shù)在相對(duì)早期階段就已存在，但市場(chǎng)應(yīng)用范圍較窄。氧化硅外觀為乳白色懸浮液，呈堿性、中性、酸性。一般時(shí)間長(zhǎng)了不會(huì)有沉淀，但是暴露在空氣中很快就會(huì)結(jié)晶，有一定的腐蝕性。不銹鋼工件在二氧化硅環(huán)境中容易生銹，拋光工件時(shí)應(yīng)及時(shí)清洗掉二氧化硅溶液。&n

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