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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]拋光液廠家--CMP拋光液用于幾代半導(dǎo)體材料?[ 2023-02-17 15:50 ]
  CMP拋光液用于幾代半導(dǎo)體材料?  CMP拋光液越來(lái)越多的應(yīng)用于第三代半導(dǎo)體材料的拋光,科研方向朝著攻克拋光液技術(shù)門(mén)檻和市場(chǎng)壁壘發(fā)展。CMP工藝的集成電路比例在不斷增加,對(duì)CMP材料種類(lèi)和用量的需求也在增加。更先進(jìn)的邏輯芯片工藝可能會(huì)要求拋光新的材料,為CMP拋光材料帶來(lái)了更多的增長(zhǎng)機(jī)會(huì)。  目前,第三代半導(dǎo)體材料主要以碳化硅(SiC)、氮化鎵(GaN)、氧化鋅(ZnO)、金剛石、氮化鋁(AlN)為代表的寬禁帶半導(dǎo)體材料。這代半導(dǎo)體具有更寬的禁帶寬度、更高的導(dǎo)熱率、更高的抗輻射能力
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[行業(yè)資訊]CMP拋光液廠家---蘋(píng)果Logo專(zhuān)用拋光液[ 2023-02-09 16:35 ]
  果粉們時(shí)常被MacBook,Iphone上閃閃發(fā)光的Apple Logo所驚艷到,那么蘋(píng)果手機(jī)和筆記本上的金屬Logo是如何實(shí)現(xiàn)鏡面工藝的呢?
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[吉致動(dòng)態(tài)]氧化硅拋光液的結(jié)晶問(wèn)題[ 2022-08-12 13:25 ]
  氧化硅拋光液長(zhǎng)時(shí)間暴露在空氣中,會(huì)使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅,造成硅晶體析出現(xiàn)象,稱(chēng)之為結(jié)晶。在實(shí)際應(yīng)用時(shí),硅溶膠拋光液會(huì)一直在磨盤(pán)內(nèi)旋轉(zhuǎn)循環(huán)及流動(dòng),結(jié)晶現(xiàn)象較少,但是高溫或拋光液濃度沒(méi)有配置好,會(huì)造成團(tuán)聚,損傷工件,影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性,吉致電子拋光液廠家開(kāi)發(fā)了抗結(jié)晶納米二氧化硅拋光液,可以長(zhǎng)時(shí)間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時(shí)易搖散且不團(tuán)聚,化學(xué)性能穩(wěn)定分散均勻,氧化硅精拋液拋光效率高,能有效縮短工時(shí),磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果,無(wú)劃傷、高平坦。  外需要注意的是,氧化硅拋光液的
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