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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]拋光液廠家--CMP拋光液用于幾代半導體材料？[ 2023-02-17 15:50 ]
  CMP拋光液用于幾代半導體材料？  CMP拋光液越來越多的應用于第三代半導體材料的拋光，科研方向朝著攻克拋光液技術(shù)門檻和市場壁壘發(fā)展。CMP工藝的集成電路比例在不斷增加，對CMP材料種類和用量的需求也在增加。更先進的邏輯芯片工藝可能會要求拋光新的材料，為CMP拋光材料帶來了更多的增長機會。  目前，第三代半導體材料主要以碳化硅（SiC）、氮化鎵（GaN）、氧化鋅（ZnO）、金剛石、氮化鋁（AlN）為代表的寬禁帶半導體材料。這代半導體具有更寬的禁帶寬度、更高的導熱率、更高的抗輻射能力
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[行業(yè)資訊]CMP拋光液廠家---蘋果Logo專用拋光液[ 2023-02-09 16:35 ]
  果粉們時常被MacBook，Iphone上閃閃發(fā)光的Apple Logo所驚艷到，那么蘋果手機和筆記本上的金屬Logo是如何實現(xiàn)鏡面工藝的呢？
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[吉致動態(tài)]氧化硅拋光液的結(jié)晶問題[ 2022-08-12 13:25 ]
  氧化硅拋光液長時間暴露在空氣中，會使水分蒸發(fā)剩下固體氧化硅，造成硅晶體析出現(xiàn)象，稱之為結(jié)晶。在實際應用時，硅溶膠拋光液會一直在磨盤內(nèi)旋轉(zhuǎn)循環(huán)及流動，結(jié)晶現(xiàn)象較少，但是高溫或拋光液濃度沒有配置好，會造成團聚，損傷工件，影響拋光效果。根據(jù)二氧化硅的特性，吉致電子拋光液廠家開發(fā)了抗結(jié)晶納米二氧化硅拋光液，可以長時間保持氧化硅穩(wěn)定液體狀態(tài)。拋磨工件時易搖散且不團聚，化學性能穩(wěn)定分散均勻，氧化硅精拋液拋光效率高，能有效縮短工時，磨拋后工件呈現(xiàn)鏡面效果，無劃傷、高平坦。  外需要注意的是，氧化硅拋光液的
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