您好,歡迎來到吉致電子科技有限公司官網(wǎng)!
收藏本站|在線留言|網(wǎng)站地圖

吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

訂購熱線:17706168670
熱門搜索: 硅晶圓slurry拋光液氧化硅拋光液集成電路拋光液CMP化學(xué)機械拋光液slurry化學(xué)機械拋光液
福吉電子采用精密技術(shù),提供超高質(zhì)量產(chǎn)品
當前位置:首頁 » 全站搜索 » 搜索:sic cmp
[應(yīng)用案例]碳化硅SiC拋光工藝[ 2023-04-19 17:08 ]
  根據(jù)半導(dǎo)體行業(yè)工藝不同,CMP拋光液可分為介質(zhì)層化學(xué)機械拋光液、阻擋層化學(xué)機械拋光液、銅化學(xué)機械拋光液、硅化學(xué)機械拋光液、鎢化學(xué)機械拋光液、TSV化學(xué)機械拋光液、淺槽隔離化學(xué)機械拋光液等。  SIC CMP拋光液是半導(dǎo)體晶圓制造過程中所需主要材料之一,在碳化硅材料工件打磨過程中起著關(guān)鍵作用,拋光液的種類、顆粒分散度、粒徑大小、物理化學(xué)性質(zhì)及穩(wěn)定性等均與拋光效果緊密相關(guān)。  近年來,在人工智能、5G、數(shù)據(jù)中心等技術(shù)不斷發(fā)展背景下,碳化硅襯底應(yīng)用領(lǐng)域不斷擴大、市場規(guī)模不斷擴大,進而帶動
http://m.jeffvon.com/Article/thgsicpggy_1.html3星
記錄總數(shù):0 | 頁數(shù):0