- [行業(yè)資訊]納米拋光液---吉致電子氧化硅slurry的應(yīng)用及特點(diǎn)[ 2024-10-10 16:56 ]
- 吉致電子納米級(jí)氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料,經(jīng)特殊工藝生產(chǎn)的一種高純度低金屬離子型CMP拋光產(chǎn)品。粒度均一的SiO2磨料顆粒在CMP研磨過程中分散均勻,能達(dá)到快速拋光的目的且不會(huì)對(duì)加工件造成物理損傷。納米級(jí)硅溶膠拋光液不易腐蝕設(shè)備,提高了使用的安全性。制備工藝和配方有效提高了平坦化加工速率,快速降低表面粗糙度,且工件表面劃傷少。 吉致電子氧化硅slurry粒徑分布可控,根據(jù)不同的拋光需求,生產(chǎn)出不同粒徑大小的納米氧化硅拋光液,粒徑范圍通常在 5-100nm 之間。以氧化硅為磨料的納米拋
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- [行業(yè)資訊]納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-11-18 16:10 ]
- 納米二氧化硅拋光液由高純納米氧化硅SiO2等多種復(fù)合材料配置而成,通過電解法或離子交換法制備成納米拋光液,硅拋光液磨料分散性好,具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐候性、高耐磨性等特點(diǎn),是一種性能優(yōu)良的CMP拋光材料。廣泛應(yīng)用于金屬或半導(dǎo)體電子封裝拋光工藝中。吉致電子硅拋光液,CMP拋光slurry應(yīng)用范圍:1、可用于微晶玻璃的表面拋光加工中。2、用于硅片的粗拋和精拋以及IC加工過程,適用于大規(guī)模集成電路多層化薄膜的平坦化加工。3、用于晶圓的后道CMP清洗等半導(dǎo)體器件的加工過程、平面顯示器、多
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- [吉致動(dòng)態(tài)]納米拋光液---納米氧化鋁拋光液[ 2022-08-31 17:24 ]
- 氧化鋁粉體具有多個(gè)晶體形態(tài),常見的有Y,θ,α,δ等相。其中α相的氧化鋁為其他相的氧化鋁高溫轉(zhuǎn)變而成。作為拋光液用的α氧化鋁顆粒,根據(jù)拋光(粗拋/精拋)的要求不同,a -Al2O3平均顆粒大小可以從100nm到500/1000nm而不同,但不管是何種拋光,氧化鋁的硬團(tuán)聚體,或超大顆粒越少越好,這些超大顆粒會(huì)在拋光過程中給晶體表面造成劃傷,導(dǎo)致整個(gè)拋光過程失敗。所以,在制備以a-Al2O3為主體的拋光液過程中,如何控制超大顆粒是一關(guān)鍵。吉致電子氧化鋁研磨液/氧化鋁精拋液,顆粒經(jīng)表面改性處理,按特殊化學(xué)配方充分混合制備
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- [吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn)[ 2022-08-19 15:29 ]
- 吉致電子納米氧化硅拋光液的特點(diǎn):1,可提高工件拋光速率和平坦度加工質(zhì)量,氧化硅拋光液采用高純納米二氧化硅(SiO2)磨料及多種復(fù)合材料配置而成,不會(huì)對(duì)工件造成物理損傷,拋光率高。2,利用均勻分散的膠體二氧化硅粒子顆粒達(dá)到高速拋光的目的。3,硅溶膠純度高,拋光液不腐蝕設(shè)備,無毒無害使用安全性能高。4,可實(shí)現(xiàn)高平坦化加工。5,有效減少拋光后的表面劃痕,降低表面粗糙度。吉致電子通過科學(xué)工藝分散均勻的氧化硅顆粒,得到均勻分散的納米拋光液,具有高強(qiáng)度、高附著力、成膜性好、高滲透、高耐磨性等特點(diǎn),是一種性能優(yōu)良的CMP技術(shù)用的
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- [行業(yè)資訊]吉致電子---金剛石拋光液的作用是什么?[ 2022-06-14 17:03 ]
- 鉆石拋光液又叫金剛石拋光液,由人造金剛石微粉通過特殊工藝制備而成,由于其切削力強(qiáng),速率快,劃痕少,所以廣泛應(yīng)用于硬質(zhì)工件的拋磨和加工,下面就由吉致電子小編給大家詳細(xì)介紹一下吉致鉆石拋光液的特點(diǎn)和使用吧。金剛石拋光液包括多晶、單晶和納米拋光液。金剛石拋光液由優(yōu)質(zhì)金剛石微粉、復(fù)合分散劑和分散介質(zhì)組成,配方多樣,對(duì)應(yīng)不同的研磨拋光工藝和工件,適用性強(qiáng)。吉致的金剛石研磨液產(chǎn)品分散性好,粒度均勻,規(guī)格齊全,質(zhì)量穩(wěn)定,廣泛用于硬質(zhì)材料的研磨拋光。聚晶金剛石拋光液(又叫多晶鉆石拋光液)利用聚晶金剛石的特性,在磨削拋光過程中能保持
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