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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[常見問(wèn)題]半導(dǎo)體拋光---硅片拋光墊怎么選[ 2023-08-08 16:31 ]
  硅片拋光涉及到半導(dǎo)體工件的技術(shù)加工領(lǐng)域,硅片拋光墊的多孔結(jié)構(gòu)和軟性磨料材料,可以適應(yīng)不同硅片材料的表面結(jié)構(gòu),達(dá)到不同表面加工的需求。在微電子、半導(dǎo)體、光電等領(lǐng)域中,CMP拋光墊的使用越來(lái)越廣泛,尤其是在制造高性能晶體管、集成電路和MEMS等微納米器件中,CMP拋光墊的質(zhì)量和性能至關(guān)重要。   硅片拋光墊的主要作用有:①使拋光液有效均勻分布至整個(gè)加工區(qū)域,且可提供新補(bǔ)充的拋光液進(jìn)行一個(gè)拋光液循環(huán);②從工件拋光表面除去拋光過(guò)程產(chǎn)生的殘留物(如拋光碎屑、拋光碎片等);③傳遞材料去除所需的
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