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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[行業(yè)資訊]吉致電子 Cu CMP研磨工藝的三個步驟[ 2024-07-31 15:40 ]
Cu CMP研磨工藝通常包括三步。第一步：用來磨掉晶圓表面的大部分金屬。第二步：通過降低研磨速率的方法精磨與阻擋層接觸的金屬,并通過終點偵測技術（Endpoint）使研磨停在阻擋層上。第三步：磨掉阻擋層以及少量的介質(zhì)氧化物,并用大量的去離子水（DIW）清洗研磨墊和晶圓。Cu CMP研磨工藝中第一和第二步的研磨液通常是酸性的,使之對阻擋層和介質(zhì)層具有高的選擇性,而第三步的研磨液通常是偏堿性,對不同材料具有不同的選擇性。這兩種研磨液（金屬研磨液/介質(zhì)研磨液）都應該含有H2O2、抗腐蝕的BTA（三唑甲基苯）以及其他添加物
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[常見問題]打磨碳化硅需要哪種拋光墊？[ 2023-08-17 16:41 ]
  打磨碳化硅需要哪種拋光墊？  打磨碳化硅襯底分研磨和拋光4道工序：粗磨、精磨、粗拋、精拋。拋光墊的選擇根據(jù)CMP工藝制程的不同搭配不同的研磨墊：粗磨墊/精磨墊/粗拋墊/精拋墊  吉致電子CMP拋光墊滿足低、中及高硬度材料拋光需求，具有高移除率、高平坦性、低缺陷和高性價比等優(yōu)勢。結合硬質(zhì)和軟質(zhì)研磨拋光墊的優(yōu)點，可兼顧工件的平坦度與均勻度碳化硅研磨選擇吉致無紡布復合拋光墊，提供更快磨合的全局平坦性，提升碳化硅晶圓制程的穩(wěn)定性與尺寸精密度。  壓紋和開槽工藝，讓PAD可保持拋光
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[應用案例]硬質(zhì)合金拋光液--鏡面拋光鎢鋼刀片[ 2023-04-14 15:01 ]
   硬質(zhì)合金刀片具有硬度高、韌性較好、耐熱、耐腐蝕等一系列優(yōu)良性能，特別是它的高硬度和耐磨性，在1000℃時仍保持較高的硬度。硬質(zhì)合金鎢鋼工件對于很多拋光工藝來說屬于比較難加工的一種材質(zhì)。鎢鋼刀片拋光目前可通過CMP化學機械拋光工藝，搭配金屬專用拋光液達到理想的表面光潔度。  硬質(zhì)合金刀片又叫鎢鋼刀片，原始件表面有銹斑、劃痕和麻點等不良現(xiàn)象，要解決這些問題需通過平面研磨機配合吉致電子硬質(zhì)合金研磨液、研磨墊、研磨盤等達到鏡面效果。  硬質(zhì)合金的CMP機械化學鏡面拋光，經(jīng)過粗拋
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[客戶感言]DPC研磨液----陶瓷覆銅板研磨液拋磨效果[ 2022-09-20 17:12 ]
我司是做陶瓷覆銅板的，做的是DPC工藝。板材對粗糙度和平面度有嚴格要求，搭配吉致電子生產(chǎn)的研磨墊、研磨液拋光液效果很好，可以達到我司要求，為了回饋貴司免費提供我司拋光液樣品，我分享兩張對比圖如下：本文由無錫吉致電子科技原創(chuàng)，版權歸無錫吉致電子科技，未經(jīng)允許，不得轉(zhuǎn)載，轉(zhuǎn)載需附出處及原文鏈接。http://m.jeffvon.com/無錫吉致電子科技有限公司聯(lián)系電話：17706168670郵編：214000地址：江蘇省無錫市新吳區(qū)行創(chuàng)四路19-2
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