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吉致電子拋光材料 源頭廠家
25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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[吉致動(dòng)態(tài)]吉致電子---常見的半導(dǎo)體研磨液有哪些[ 2023-07-31 17:23 ]
  吉致電子半導(dǎo)體研磨液有哪些?常見的CMP研磨液有氧化鋁研磨液,金剛石研磨液,藍(lán)寶石研磨液。分別用于磨削工件、半導(dǎo)體制程、光學(xué)玻璃晶圓等工件加工。  其中金剛石研磨液,它的硬度非常高,性能穩(wěn)定切削力強(qiáng),被廣泛應(yīng)用于led工業(yè)、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)、光學(xué)玻璃和寶石加工業(yè)、機(jī)械加工業(yè)等不同行業(yè)中。研磨液是半導(dǎo)體加工生產(chǎn)過(guò)程中的一項(xiàng)非常重要工藝,它主要是通過(guò)CMP研磨液混配磨料的方式對(duì)半導(dǎo)體表面進(jìn)行精密加工,達(dá)到平坦度。研磨液是影響半導(dǎo)體表面工作質(zhì)量的重要經(jīng)濟(jì)因素。吉致電子用經(jīng)驗(yàn)和技術(shù)服務(wù)每一位客戶,有CMP
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[吉致動(dòng)態(tài)]納米拋光液---納米氧化鋁拋光液[ 2022-08-31 17:24 ]
氧化鋁粉體具有多個(gè)晶體形態(tài),常見的有Y,θ,α,δ等相。其中α相的氧化鋁為其他相的氧化鋁高溫轉(zhuǎn)變而成。作為拋光液用的α氧化鋁顆粒,根據(jù)拋光(粗拋/精拋)的要求不同,a -Al2O3平均顆粒大小可以從100nm到500/1000nm而不同,但不管是何種拋光,氧化鋁的硬團(tuán)聚體,或超大顆粒越少越好,這些超大顆粒會(huì)在拋光過(guò)程中給晶體表面造成劃傷,導(dǎo)致整個(gè)拋光過(guò)程失敗。所以,在制備以a-Al2O3為主體的拋光液過(guò)程中,如何控制超大顆粒是一關(guān)鍵。吉致電子氧化鋁研磨液/氧化鋁精拋液,顆粒經(jīng)表面改性處理,按特殊化學(xué)配方充分混合制備
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