- [行業(yè)資訊]碳化硅襯底CMP拋磨工藝流程[ 2022-10-26 14:32 ]
- 碳化硅襯底CMP化學(xué)機械拋光工藝需要用到吉致電子CMP拋光液和拋光墊，拋磨工藝一般分為3道流程：雙面拋磨、粗拋、精拋。下面來看看吉致電子小編碳化硅晶圓拋光工藝介紹和拋光產(chǎn)品推薦吧。碳化硅襯底雙面研磨：一般使用雙面鑄鐵盤配合吉致電子金剛石研磨液或者碳化硅晶圓研磨液進行加工；主要目的是去除線切損傷層以及改善晶片的平坦度。碳化硅襯底粗拋工藝：針對碳化硅襯底加工采用專門的碳化硅晶圓拋光液配合粗拋墊。既可以達到傳統(tǒng)工藝中較高的的拋光速率（與精磨基本相當）又可以達到傳統(tǒng)工藝中粗拋后的表面光潔度。碳化硅襯底精拋工藝：SIC晶圓精
-
http://m.jeffvon.com/Article/thgcdcmppm_1.html
相關(guān)搜索
- 無相關(guān)搜索
吉致熱門資訊
-
吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些 -
喜迎“六一”歡度“端午”----吉致電子員工團建活動
-
吉致電子---氧化硅拋光液的特點和作用
-
氧化硅拋光液的結(jié)晶問題
-
鏡面拋光液---氧化硅拋光液在拋光中的作用
-
什么是金剛石研磨液
-
吉致電子納米氧化硅拋光液的特點
-
吉致電子CMP拋光液適用設(shè)備有哪些？
-
納米拋光液---納米氧化鋁拋光液
-
相聚吉致 歡度中秋---2022年吉致電子科技中秋團建活動
-
吉致電子 射頻濾波器拋光液slurry廠家
-
吉致電子CMP不銹鋼拋光液的特點
-
吉致電子淺槽隔離拋光液怎么用
-
不銹鋼拋光液的CMP鏡面拋光
-
吉致電子--不銹鋼工件的研磨拋光工序
-
吉致電子Slurry拋光漿料--阻擋層拋光液
-
硅溶膠研磨液--精密工件鏡面拋光效果秘密
-
2023吉致電子春節(jié)放假通知
-
吉致電子常見的CMP研磨液
-
CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點
