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25年 專注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

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吉致電子:CMP鉬金屬研磨液,點(diǎn)亮鉬材非凡光彩

文章出處:責(zé)任編輯:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2024-09-29 16:55【

  無錫吉致電子科技有限公司是CMP研磨液、拋光墊及CMP拋光耗材研發(fā)生產(chǎn)廠家,至今已有 20 余年的研發(fā)經(jīng)驗(yàn)。

  吉致電子CMP產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于金屬、光電、集成電路半導(dǎo)體、陶瓷、硬盤面板顯示器等材質(zhì)的表面深度處理,目前已發(fā)展為集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的現(xiàn)代工業(yè)科技廠家。目前我司生產(chǎn)的鉬金屬研磨液適用于平面形態(tài)的鉬、鉬合金工件的鏡面拋光,通過  化學(xué)機(jī)械平面研磨工藝,使鉬金屬表面快速去粗和平坦化,過程簡單來說就是利用拋光設(shè)備將鉬金屬拋光液化學(xué)氧化腐蝕鉬合金表面,再通過拋光墊外力研磨去除氧化物部分,得到理想鏡面效果,鉬合金表面光滑平整,具有易清洗、無殘留等特點(diǎn)。

  吉致電子鉬金屬研磨液適用于平面形態(tài)的鉬金屬、鉬合金工件、鉬鏡拋光(如激光反射鏡等),鉬cmp產(chǎn)品有微米/納米級拋光液,鉬片拋光后具有均勻鏡面效果,磨料顆粒呈懸浮狀態(tài),不易分散沉淀,提高 CMP 效率和穩(wěn)定性,磨料具有硬度高、穩(wěn)定性好、化學(xué)惰性強(qiáng)等特點(diǎn),可用于鋼鐵、化工、電子、航天、光學(xué)領(lǐng)域的鉬片加工。可達(dá)到優(yōu)良的表面平坦度,拋光速率快、良率高、表面均一無缺陷,市場及客戶反饋良好,歡迎咨詢吉致電子Mo cmp slurry,幫您解決鉬片拋光方案。


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