化學機械拋光技術(shù)
為滿足芯片微型化、高密度化、高速化、高數(shù)字化和系統(tǒng)集成化的要求,對芯片直徑、平坦化、線寬和金屬互連層數(shù)提出了更高要求,這也對晶片的精密加工提出了更高要求。
半導體晶圓(芯片)加工工藝流程如圖1所示。
由于大規(guī)模集成電路(ULSI)向高度集成和多層布線發(fā)展,化學機械拋光、平坦化已成為集成電路制造不可缺少的關(guān)鍵工藝。它不僅是硅晶圓加工中終獲得納米光滑、無損傷表面的有效方法,也是芯片多層布線中不可替代的層間局域平坦化方法。在晶圓(芯片)制造過程中(見圖1)多次使用CMP工藝。
化學機械拋光過程(見圖2)使用安裝在剛性拋光平盤上的柔性拋光墊,硅片被壓在拋光墊上,在拋光液的作用下進行拋光,拋光液含有化學液(即雙氧水H2O2)和納米磨料。硬的硅基陶瓷材料由磨料的機械作用拋光,而金屬則由金屬和拋光液內(nèi)的化學物質(zhì)之間的化學反應進行拋光,即采用化學與機械方法綜合作用去除多余材料而得到平坦化的高質(zhì)量表面。
轉(zhuǎn)載需附出處及原文鏈接 http://m.jeffvon.com/
無錫吉致電子科技有限公司
咨詢熱線:17706168670
相關(guān)資訊
最新產(chǎn)品
同類文章排行
- 吉致電子碳化硅SiC拋光液的作用
- 半導體襯底拋光工藝---磷化銦InP拋光液
- 吉致電子--單晶金剛石研磨液的用途
- 生物芯片拋光---吉致碳酸鈣拋光液
- 吉致電子--磨具拋光液 配油盤加工拋光
- 吉致電子 Diamond slurry多晶金剛石研磨液
- 吉致電子---常見的半導體研磨液有哪些
- 第三代半導體材料--碳化硅晶圓SiC拋光液
- 吉致電子手機取卡針拋光液
- CMP拋光液---納米氧化鈰拋光液的優(yōu)點