吉致電子拋光材料 源頭廠(chǎng)家
25年 專(zhuān)注CMP拋光材料研發(fā)與生產(chǎn)

吉致電子CMP Pad化學(xué)機(jī)械拋光墊

吉致電子專(zhuān)注研發(fā)、設(shè)計(jì)、測(cè)試與生產(chǎn)制造CMP耗材，CMP PAD化學(xué)機(jī)械拋光墊用于半導(dǎo)體制造、平面顯示器、光學(xué)玻璃、各類(lèi)晶圓襯底材料、高精密陶瓷件、金屬與硬盤(pán)基板的研磨拋光工藝。吉致電子CMP拋光墊采用精密涂布技術(shù)和科技材料能有效提升客戶(hù)制程中的移除率和高平坦度、低缺陷等要求。吉致拋光墊團(tuán)隊(duì)從事高分子材料合成、發(fā)泡技術(shù)與復(fù)合材料研制已有多年經(jīng)驗(yàn)，積累深厚的材料制造和研發(fā)基礎(chǔ).拋光墊產(chǎn)品因其特殊纖維材質(zhì)，耐用、耐磨、耐酸堿，價(jià)比高。PAD產(chǎn)品包括且不限于：聚氨酯拋光墊、阻尼布精拋墊、復(fù)合拋光墊、絨面拋光墊、無(wú)紡布拋光

查看詳情>>

吉致電子---無(wú)蠟吸附墊的特點(diǎn)

無(wú)蠟墊與吸附墊是在半導(dǎo)體與光學(xué)玻璃領(lǐng)域取代蠟塊粘結(jié)工件的科技產(chǎn)品。有直接吸附型與帶框置具型，搭配吉致CMP納米級(jí)拋光液使用，可提升晶圓、襯底、芯片的拋光效率和良品率。無(wú)蠟吸附墊Template是替代以蠟將工件黏附在置具上的模式，內(nèi)層採(cǎi)用了拋光微孔材料其吸附性能表現(xiàn)為真空狀態(tài)吸附住被拋光工件，良好的壓縮率和回彈性分別適合中高壓研磨制程。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓/芯片/藍(lán)寶石襯底TFT/STN/素玻璃/石英光罩/光學(xué)玻璃等領(lǐng)域的CMP單面拋光。 吉致電子無(wú)蠟吸附墊的優(yōu)點(diǎn)在于加工過(guò)程中

查看詳情>>

吉致電子---阻尼布拋光墊的功能和應(yīng)用領(lǐng)域

吉致電子阻尼布拋光墊（精拋墊）的功能和應(yīng)用領(lǐng)域有哪些？一、阻尼布拋光墊的功能優(yōu)勢(shì)①提高拋光質(zhì)量：阻尼布拋光墊能夠有效吸收拋光過(guò)程中的振動(dòng)和沖擊，使拋光表面更加光滑、細(xì)膩，從而提高產(chǎn)品質(zhì)量。②減少表面損傷：通過(guò)降低拋光過(guò)程中的振動(dòng)和沖擊力，阻尼布拋光墊可以減少對(duì)拋光表面的損傷，保護(hù)材料的完整性。③提高工作效率：阻尼布拋光墊具有良好的耐用性和穩(wěn)定性，能夠長(zhǎng)時(shí)間保持穩(wěn)定的拋光效果，從而提高工作效率。二、阻尼布拋光墊的應(yīng)用領(lǐng)域阻尼布拋光墊在多個(gè)領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用，包括但不限于：①金屬加工領(lǐng)域：可用于金屬表面的拋光處理，如鈦

查看詳情>>

吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些

吉致電子CMP精拋墊的作用有哪些？化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）技術(shù)是目前國(guó)際上公認(rèn)的唯一能夠?qū)崿F(xiàn)全局平坦化的技術(shù)，在半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域中占據(jù)著舉足輕重的地位。CMP精拋墊，作為CMP化學(xué)機(jī)械平面研磨（Chemical Mechanical Polishing）精拋階段所使用的拋光墊，是半導(dǎo)體制造過(guò)程中不可或缺的關(guān)鍵耗材。吉致電子CMP拋光墊--精拋墊的功能特點(diǎn)將通過(guò)以下四個(gè)方面進(jìn)行闡述：  CMP精拋墊在CMP工藝流程中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，其主要功能涵蓋：1.確保拋光液能夠高效且均勻

查看詳情>>

黑色阻尼布拋光墊和白色阻尼布拋光墊的區(qū)別

白色阻尼布拋光墊和黑色阻尼布拋光墊的主要區(qū)別有哪些？黑白色阻尼布PAD的區(qū)別在于材質(zhì)、用途和拋光效果。一、黑色/白色阻尼布材質(zhì)和用途不同?白色阻尼布拋光墊?：通常采用中等硬度的材質(zhì)，如中等密度的海綿或布料。這種拋光墊在去除中度劃痕和污漬方面效果顯著，適用于中等強(qiáng)度的拋光作業(yè)。它能夠在拋光過(guò)程中保持適中的溫度，避免對(duì)材料造成熱損傷，因此在各種金屬、塑料等材料的拋光過(guò)程中得到廣泛應(yīng)用?。黑色阻尼布拋光墊：采用較硬的材質(zhì)，如高密度海綿或硬質(zhì)布料。這種拋光墊具有較強(qiáng)的切削力和耐磨性，適用于去除重度劃痕、污漬和氧化層。

查看詳情>>

吉致電子CMP拋光液在光學(xué)玻璃加工中的應(yīng)用進(jìn)展

  CMP拋光液在光學(xué)玻璃領(lǐng)域的應(yīng)用主要體現(xiàn)在實(shí)現(xiàn)光學(xué)玻璃表面的超精密加工，以滿(mǎn)足對(duì)表面粗糙度和平坦度的高要求。CMP拋光液通過(guò)化學(xué)作用和機(jī)械研磨的有機(jī)結(jié)合，能夠有效地去除光學(xué)玻璃表面的材料，達(dá)到高度平坦化、低表面粗糙度和低缺陷的效果。隨著光學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)光學(xué)玻璃表面質(zhì)量的要求也越來(lái)越高。CMP拋光液/研磨液作為一種先進(jìn)的拋光材料，在光學(xué)玻璃領(lǐng)域的應(yīng)用越來(lái)越廣泛。   在CMP拋光過(guò)程中，拋光液中的化學(xué)成分與光學(xué)玻璃表面發(fā)生反應(yīng)形成軟質(zhì)層。同時(shí)，拋光液中的磨料微粒，如納米二氧化硅

查看詳情>>

半導(dǎo)體拋光墊---吉致電子Suba pad替代

 在半導(dǎo)體硅片、襯底、光學(xué)玻璃以及精密陶瓷等材料的加工領(lǐng)域，CMP拋光工藝是至關(guān)重要的環(huán)節(jié)，而CMP拋光墊（CMP Pad）則是這一環(huán)節(jié)中的關(guān)鍵因素之一。其中，由陶氏公司（Dow）生產(chǎn)的SUBA拋光墊（Suba Pad）備受矚目。   陶氏公司生產(chǎn)的SUBA拋光墊在CMP化學(xué)機(jī)械研磨方面有著優(yōu)異的拋光性能，尤其在拋光半導(dǎo)體晶圓方面效果顯著。半導(dǎo)體晶圓和襯底是現(xiàn)代集成電路產(chǎn)業(yè)的基石，晶圓和襯底表面的平坦度、光潔度等直接影響芯片的性能和質(zhì)量。SUBA拋光墊憑借其獨(dú)特的材料和結(jié)構(gòu)，能夠使拋光過(guò)程達(dá)到一

查看詳情>>

吉致電子---碲鋅鎘襯底用什么拋光液？

  碲鋅鎘晶體是一種具有優(yōu)異光電性能的半導(dǎo)體材料，其化學(xué)式為CdZnTe，也被稱(chēng)為CZT。這種材料在核輻射探測(cè)器、X射線(xiàn)和伽馬射線(xiàn)探測(cè)器以及紅外探測(cè)器等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。由于其高電阻率、高原子序數(shù)和良好的能量分辨率，碲鋅鎘晶體特別適合用于高分辨率的放射線(xiàn)成像設(shè)備。此外，它還具有良好的化學(xué)穩(wěn)定性和機(jī)械加工性能，使其在制造過(guò)程中易于加工成各種形狀和尺寸。那么碲鋅鎘襯底用什么拋光液進(jìn)行CMP加工呢？   碲鋅鎘CMP研磨拋光一般采用化學(xué)機(jī)械拋光（Chemical Mechanical Pl

查看詳情>>

吉致電子--磷化銦拋光液在半導(dǎo)體CMP制程中的應(yīng)用

無(wú)錫吉致電子科技提供的磷化銦襯底拋光液是一種專(zhuān)門(mén)用于半導(dǎo)體材料磷化銦表面處理的CMP化學(xué)機(jī)械拋光漿料。它包含特定的磨料和化學(xué)成分，能夠有效去除磷化銦表面的微小缺陷和不平整，確保獲得光滑、無(wú)損傷的表面。磷化銦拋光液在半導(dǎo)體制造過(guò)程中非常重要，它直接影響到最終器件的性能和穩(wěn)定性。磷化銦襯底拋光液的選擇和使用是一個(gè)復(fù)雜的過(guò)程，需要綜合考慮多個(gè)因素，且在CMP拋磨使用時(shí)，需要根據(jù)磷化銦襯底的具體要求和拋光設(shè)備的特性來(lái)選擇合適的InP拋光液，并嚴(yán)格控制拋光過(guò)程中的參數(shù)，如溫度、壓力和拋光時(shí)間等。首先，磷化銦CMP拋光液的成分

查看詳情>>

吉致電子CMP拋光墊：從粗到精，體驗(yàn)高效拋光

  CMP（化學(xué)機(jī)械拋光）拋光墊是一種在半導(dǎo)體制造過(guò)程中用于平面化晶圓表面的關(guān)鍵材料。CMP拋光墊通過(guò)結(jié)合化學(xué)反應(yīng)和機(jī)械研磨的方式，能夠有效地去除晶圓表面的多余材料，從而達(dá)到高度平整的表面質(zhì)量。拋光墊CMP PAD通常由高分子聚合物材料制成，表面具有一定的微孔結(jié)構(gòu)，以便在拋光過(guò)程中儲(chǔ)存和釋放拋光液CMP Slurry，從而確保拋光過(guò)程的均勻性和效率。  CMP拋光墊在使用過(guò)程中需要定期更換，以保持其最佳的拋光性能。不同的CMP拋光墊適用于不同的拋光工藝和材料，因此選擇合適的拋光墊對(duì)于確保晶圓質(zhì)量

查看詳情>>

金剛石懸浮液在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用

    金剛石懸浮液（CMP研磨液）在半導(dǎo)體集成電路領(lǐng)域的應(yīng)用：適用于半導(dǎo)體晶圓拋光液CMP加工，藍(lán)寶石襯底、碳化硅晶圓、氮化鎵、磷化銦等半導(dǎo)體晶片。    金剛石懸浮液在半導(dǎo)體晶圓的CMP研磨拋光中發(fā)揮著重要作用。以藍(lán)寶石襯底為例，藍(lán)寶石材質(zhì)硬度較高，傳統(tǒng)的研磨液難以達(dá)到理想的拋光效果，而金剛石懸浮液因其高硬度、高韌性的金剛石顆粒，能夠快速去除藍(lán)寶石襯底表面的材料，同時(shí)保證加工表面的光潔度。對(duì)于碳化硅SiC和氮化鎵、磷化銦等半導(dǎo)體晶片，金剛石懸浮液同樣表

查看詳情>>

吉致電子---什么是金剛石懸浮液CMP研磨液

   金剛石懸浮液（CMP研磨液）是一種由人造鉆石磨粒分散于水基或油基液體中制備而成的拋光懸浮液。它在硅片、硬質(zhì)合金、高密度陶瓷、藍(lán)寶石襯底體等多個(gè)領(lǐng)域都有著廣泛的應(yīng)用。金剛石研磨液所含微粒是其發(fā)揮機(jī)械作用的關(guān)鍵因素。不同種類(lèi)、不同粒度的金剛石微粉，拋光去除效果各不相同。例如，金剛石磨料硬度越高、粒徑越大，磨削效率越高，但加工表面光潔度越低；反之，金剛石磨料硬度越低、粒徑越小，磨削效率越低，而加工表面光潔度越高。所以，可以根據(jù)工件的具體參數(shù)選擇   不同型號(hào)和粒徑的金剛石研磨

查看詳情>>

吉致電子--半導(dǎo)體CMP無(wú)蠟吸附墊

吉致電子無(wú)蠟吸附墊具有獨(dú)特的孔隙結(jié)構(gòu)，其吸附性能表現(xiàn)為真空狀態(tài)吸附住被拋光物件，其復(fù)合結(jié)構(gòu)與感壓膠設(shè)計(jì)在高的壓縮率及壓縮回彈率，分別適合CMP中高壓研磨制程，提供了優(yōu)異平坦化、不易沾黏、易清潔、下片容易、耐酸堿、高壽命等特性。此外，無(wú)蠟吸附墊、芯片吸附墊、硅片吸附墊的孔隙結(jié)構(gòu)還賦予其出色的透氣性和滲透性，確保了拋光過(guò)程中熱量的有效散發(fā)，避免工件因過(guò)熱而受損。感壓膠的靈活設(shè)計(jì)不僅提升了產(chǎn)品的適應(yīng)性，使其能在各種復(fù)雜表面實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定吸附

查看詳情>>

阻尼布拋光墊：提升工件CMP表面平坦度的秘訣

  絨面拋光墊，亦稱(chēng)阻尼布拋光墊，是由PU發(fā)泡微孔隙結(jié)構(gòu)與底層特殊基材相結(jié)合的獨(dú)特復(fù)合材料。其表層的細(xì)微開(kāi)孔和高壓縮率特性，使得拋光液Slurry得以充分涵養(yǎng)，從而促進(jìn)機(jī)械與化學(xué)反應(yīng)的充分作用。此外，表層優(yōu)秀的研磨液流動(dòng)性有助于提升工件表面的潔凈度，降低表面粗糙度，并減少橘皮和微劃傷等缺陷。  阻尼布拋光墊廣泛應(yīng)用于各種精密加工領(lǐng)域，如半導(dǎo)體、液晶顯示屏、光學(xué)玻璃等。其優(yōu)異的拋光性能不僅能夠滿(mǎn)足高精度的表面處理要求，而且在提高生產(chǎn)效率和降低材料消耗方面也表現(xiàn)出色。由于其獨(dú)特的材料結(jié)構(gòu)，絨面拋光墊

查看詳情>>

吉致電子---Si硅片拋光液，為半導(dǎo)體護(hù)航

  半導(dǎo)體硅片拋光液是一種均勻分散膠粒的乳白色膠體，在半導(dǎo)體材料的CMP加工過(guò)程中起著至關(guān)重要的作用。其外觀(guān)通常為乳白色或微藍(lán)色透明溶液。半導(dǎo)體硅片Si拋光液主要有拋光、潤(rùn)滑、冷卻等作用。在拋光方面，Si Slurry能夠有效地去除半導(dǎo)體硅晶圓表面的雜質(zhì)和凸起，使硅片表面更加光滑平整。例如，經(jīng)過(guò)拋光液處理后，晶片表面的微粗糙度可以達(dá)到 0.2nm 以下。在潤(rùn)滑作用中，它可以減少硅片與拋光設(shè)備之間的摩擦，降低磨損，延長(zhǎng)設(shè)備的使用壽命。同時(shí)，在拋光過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生熱量，而拋光液的冷卻作用可以及時(shí)帶走熱量，防止硅片

查看詳情>>

吉致電子LN鈮酸鋰拋光液，CMP精密加工好助手

  鈮酸鋰化學(xué)式為L(zhǎng)iNbO3簡(jiǎn)稱(chēng)LN，具有良好的非線(xiàn)性光學(xué)性質(zhì)，可用作光波導(dǎo)材料，或用于制作中低頻聲表濾波器、大功率耐高溫超聲換能器等。鈮酸鋰摻雜技術(shù)如今被廣泛應(yīng)用。Mg:LN提高抗激光損傷閾值，優(yōu)化在非線(xiàn)性光學(xué)領(lǐng)域的應(yīng)用；Nd:Mg:LN晶體可實(shí)現(xiàn)自倍頻效應(yīng)；Fe:LN晶體可用于光學(xué)體全息存儲(chǔ)。CMP研磨液拋光液能平坦化鈮酸鋰晶圓表面凹陷，晶圓快速達(dá)到理想粗糙度。  8寸鈮酸鋰晶圓在光電子器件和集成電路領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。相較于較小尺寸的晶圓，8英寸鈮酸鋰晶圓具有明顯的優(yōu)勢(shì)。首先，它擁有更大

查看詳情>>

半導(dǎo)體芯片研磨液與CMP工藝：鑄就芯片制造的基石

  CMP工藝在芯片制造的關(guān)鍵環(huán)節(jié)  在蓬勃發(fā)展的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，芯片制造如同一場(chǎng)精細(xì)的藝術(shù)創(chuàng)作，而半導(dǎo)體芯片研磨與CMP工藝則是其中重要的環(huán)節(jié)。芯片制造是一個(gè)高度復(fù)雜的過(guò)程，涉及多個(gè)步驟，CMP工藝在這個(gè)過(guò)程中起著不可或缺的作用。  隨著芯片制程不斷縮小，對(duì)晶圓表面平整度的要求越來(lái)越高。如果晶圓表面不平整，在后續(xù)的光刻、刻蝕等工藝中，就會(huì)出現(xiàn)對(duì)焦精度不準(zhǔn)確、線(xiàn)寬控制不穩(wěn)定等問(wèn)題，嚴(yán)重影響芯片的性能和質(zhì)量。例如，當(dāng)制造層數(shù)增加時(shí)，如果晶圓表面不平整，可能導(dǎo)致金屬薄膜厚度不均進(jìn)而影響電阻值

查看詳情>>

電子3C行業(yè)的好幫手---蘋(píng)果logo研磨液

 客戶(hù)經(jīng)常會(huì)問(wèn)macbook鋁合金外面蘋(píng)果logo是怎么加工的？蘋(píng)果的背面Logo鏡面是怎么做的？蘋(píng)果logo拋光？ 蘋(píng)果產(chǎn)品一直以其精湛的工藝和卓越的設(shè)計(jì)而備受矚目，其中蘋(píng)果logo的研磨工藝更是在整個(gè)產(chǎn)品中起到了至關(guān)重要的作用。  蘋(píng)果logo采用了CMP化學(xué)機(jī)械平面拋光工藝，這一工藝借助CMP設(shè)備、研磨液 / 拋光液和拋光墊的共同作用，能夠使金屬工件表面達(dá)到鏡面效果，極大地提升了Apple logo的質(zhì)感。在蘋(píng)果的筆記本電腦和手機(jī)上，閃閃發(fā)光的Apple Logo常常讓人驚艷不已

查看詳情>>

解鎖高效，硬質(zhì)合金CMP拋光液來(lái)襲

   硬質(zhì)合金是由難熔金屬的硬質(zhì)化合物和粘結(jié)金屬通過(guò)粉末冶金工藝制成的一種合金材料。它具有硬度高、耐磨、強(qiáng)度和韌性較好、耐熱、耐腐蝕等一系列優(yōu)良性能，被譽(yù)為“工業(yè)牙齒”，廣泛用于切削工具、刀具、鈷具和耐磨零部件，在軍工、航天航空、機(jī)械加工、冶金、石油鉆井、礦山工具、電子通訊、建筑等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。常用硬質(zhì)合金按成分和性能特點(diǎn)分為三類(lèi):鎢鈷類(lèi)、鎢鈦鈷類(lèi)、鎢鈦鉭(鈮)類(lèi)，每種都有其適用的領(lǐng)域和優(yōu)勢(shì)。硬質(zhì)合金平面件，如鎢鋼、鎢合金材質(zhì)等使用CMP拋光液和CMP研磨工藝能達(dá)到

查看詳情>>

吉致電子---磷化銦InP晶圓拋光液的市場(chǎng)現(xiàn)狀

  目前，全球磷化銦（InP）晶圓市場(chǎng)的cmp拋光耗材主要由少數(shù)國(guó)外廠(chǎng)商主導(dǎo)。這些國(guó)外廠(chǎng)商憑借先進(jìn)的技術(shù)和豐富的經(jīng)驗(yàn)，在產(chǎn)品質(zhì)量和性能方面具有顯著優(yōu)勢(shì)。例如Fujimi Incorporated、Ferro (UWiZ Technology) 等企業(yè)在全球半導(dǎo)體slurry拋光液市場(chǎng)中具有較高的知名度和占有率。  相比之下，國(guó)內(nèi)企業(yè)的磷化銦（InP）晶圓拋光液研發(fā)起步較晚，但近年來(lái)隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體的快速發(fā)展，國(guó)產(chǎn)cmp拋光耗材也大量進(jìn)入市場(chǎng)，國(guó)內(nèi)廠(chǎng)家也在不斷加大研發(fā)投入，努力提升拋光液、拋光墊產(chǎn)品

查看詳情>>