吉致電子CMP Pad化學(xué)機械拋光墊
吉致電子專注研發(fā)、設(shè)計、測試與生產(chǎn)制造CMP耗材,CMP PAD化學(xué)機械拋光墊用于半導(dǎo)體制造、平面顯示器、光學(xué)玻璃、各類晶圓襯底材料、高精密陶瓷件、金屬與硬盤基板的研磨拋光工藝。
吉致電子CMP拋光墊采用精密涂布技術(shù)和科技材料能有效提升客戶制程中的移除率和高平坦度、低缺陷等要求。吉致拋光墊團隊從事高分子材料合成、發(fā)泡技術(shù)與復(fù)合材料研制已有多年經(jīng)驗,積累深厚的材料制造和研發(fā)基礎(chǔ).拋光墊產(chǎn)品因其特殊纖維材質(zhì),耐用、耐磨、耐酸堿,價比高。PAD產(chǎn)品包括且不限于:聚氨酯拋光墊、阻尼布精拋墊、復(fù)合拋光墊、絨面拋光墊、無紡布拋光墊、無蠟吸附墊、緩沖墊等。我司可為客戶提供客制化CMP拋光墊及拋光液產(chǎn)品,國產(chǎn)替代拋光墊(Suba/Fujibo/環(huán)球IC1000/杜邦/G804w等)、拋光液等。吉致的拋光墊生產(chǎn)技術(shù),是引進國外生產(chǎn)技術(shù),其品質(zhì)可以媲美進口的產(chǎn)品,但吉致產(chǎn)品價格比進口拋光墊便宜,有效的避免了進口產(chǎn)品其交貨周期長,價格昂貴等問題。
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