隨著光學(xué)技術(shù)和集成電路技術(shù)的飛速發(fā)展，對(duì)光學(xué)元件的精密和超精密拋光以及集成電路的CMP拋光液工藝的要求越來(lái)越高，甚至達(dá)到了極其苛刻的程度，尤其是在表面粗糙度和缺陷的控制方面。鈰系稀土拋光液因其切削能力強(qiáng)、拋光精度高、拋光質(zhì)量好、使用壽命長(zhǎng)，在光學(xué)精密拋光領(lǐng)域發(fā)揮了極其重要的作用。

吉致電子氧化鈰拋光液的種類和固含量可按拋光工件的用途來(lái)分：

根據(jù)氧化鈰的含量，氧化鈰拋光液可分為低鈰、中鈰和高鈰拋光液，其切削力和使用壽命也由低到高。

1.含95%以上氧化鈰的鈰拋光液呈淡黃色，比重約7.3。主要適用于精密光學(xué)鏡片的高速拋光。該拋光粉性能優(yōu)異，拋光效果好。

2.中鈰CeO₂拋光液，含氧化鈰70%~85%，呈黃色或褐色，比重約6.5。主要適用于光學(xué)儀器中精密小球面透鏡的高速拋光。

3.低鈰稀土拋光液，含氧化鈰40%~60%，適用于電視顯像管、眼鏡片和平板玻璃。

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